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高溫紅外煙氣分析儀，是利用紅外線(xiàn)進(jìn)行氣體剖析。它依據(jù)待剖析組分的濃度不同，吸收的輻射能不同.剩下的輻射能使得檢測(cè)器里的溫度升高不同，動(dòng)片薄膜兩頭所受的壓力不同，從而發(fā)生一個(gè)電容檢測(cè)器的電信號(hào)。這樣，高溫紅外煙氣剖析儀就可間接丈量出待剖析組分的濃度。
1.比爾規(guī)律
關(guān)于一臺(tái)制造好了的高溫紅外煙氣剖析儀，其丈量組分已定，即待剖析組分對(duì)輻射波段的吸收系數(shù)k必定;紅外光源已定，即紅外線(xiàn)經(jīng)過(guò)介質(zhì)前的輻射強(qiáng)度I0必定;氣室長(zhǎng)度L必定。從比爾規(guī)律可以看出：經(jīng)過(guò)丈量輻射能量的衰減I，就可確認(rèn)待剖析組分的濃度C了。
2.剖析檢測(cè)原理
1.比爾規(guī)律
高溫紅外煙氣剖析儀是依據(jù)比爾規(guī)律制成的。假定被測(cè)氣體為一個(gè)無(wú)限薄的平面.強(qiáng)度為k的紅外線(xiàn)筆直穿透它，則能量衰減的量為：I=I0e-KCL(比爾規(guī)律)式中：I--被介質(zhì)吸收的輻射強(qiáng)度;
I0--紅外線(xiàn)經(jīng)過(guò)介質(zhì)前的輻射強(qiáng)度;
K--待剖析組分對(duì)輻射波段的吸收系數(shù);
C--待剖析組分的氣體濃度;
L--氣室長(zhǎng)度(赦測(cè)氣體層的厚度)
關(guān)于一臺(tái)制造好了的高溫紅外煙氣剖析儀，其丈量組分已定，即待剖析組分對(duì)輻射波段的吸收系數(shù)k必定;紅外光源已定，即紅外線(xiàn)經(jīng)過(guò)介質(zhì)前的輻射強(qiáng)度I0必定;氣室長(zhǎng)度L必定。從比爾規(guī)律可以看出：經(jīng)過(guò)丈量輻射能量的衰減I，就可確認(rèn)待剖析組分的濃度C了。
2.剖析檢測(cè)原理
高溫紅外煙氣剖析儀由兩個(gè)獨(dú)立的光源別離發(fā)生兩束紅外線(xiàn)該射線(xiàn)束別離經(jīng)過(guò)調(diào)制器，成為5Hz的射線(xiàn)。依據(jù)實(shí)際需要，射線(xiàn)可經(jīng)過(guò)一濾光鏡削減背景氣體中其它吸收紅外線(xiàn)的氣體組分的干擾。
高溫紅外煙氣剖析儀紅外線(xiàn)經(jīng)過(guò)兩個(gè)氣室，一個(gè)是充以不斷流過(guò)的被測(cè)氣體的丈量室，另一個(gè)是充以無(wú)吸收性質(zhì)的背景氣體的參比室。作業(yè)時(shí)，當(dāng)丈量室內(nèi)被測(cè)氣體濃度改變時(shí)，吸收的紅外線(xiàn)光量發(fā)生相應(yīng)的改變，而基準(zhǔn)光束(參比室光束)的光量不發(fā)生改變。從二室出來(lái)的光量差經(jīng)過(guò)檢測(cè)器，使檢測(cè)器發(fā)生壓力差，并變成電容檢測(cè)器的電信號(hào)。此信號(hào)經(jīng)信號(hào)調(diào)理電路擴(kuò)大處理后，送往顯現(xiàn)器以及總控的CRT顯現(xiàn)。該輸出信號(hào)的巨細(xì)與被淵組分濃度成比例。
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