輝光放電分析(GDA)于1968年*出現(xiàn),初用于各種塊狀金屬和合金的光譜化學(xué)分析。 這種分析方法不斷地發(fā)展,尤其擅長于表面和涂層分析。與傳統(tǒng)的激發(fā)技術(shù)相比,輝光放電技術(shù)的突出優(yōu)點(diǎn)是能夠表層分析樣品的表層。
主要特點(diǎn)
1.涂(鍍)層材料和均相材料化學(xué)成分的分析,痕量和微量合金元素的檢測和測量
2.濃度分布測定和表層測量數(shù)據(jù)的定性/定量評價(jià)
3.測定被分析表面層內(nèi)部的相相比
4.軟件基于Windows 2000環(huán)境,日常分析功能采用易用的軟件界面,使用戶能很快地熟悉儀器的使用。
5. 分析軟件具有強(qiáng)大功能并且靈活易用,具有許多適于用戶的軟件功能選項(xiàng),如顯示輸出、數(shù)據(jù)傳輸和數(shù)據(jù)格式。
6. 化學(xué)成分可以與其他特性,如被分析區(qū)域中的密度和質(zhì)量分布同時(shí)測定
應(yīng)用領(lǐng)域
塊狀樣品分析
GDA750可用于塊狀樣品的分析(如金屬合金的化學(xué)成分),為復(fù)雜基體材料的分析提供具有良好線性的工作曲線。
工藝過程佳化
通過比較涂(鍍)層工藝過程(CVD,PVD)前后的表面特性,確保生產(chǎn)工藝過程佳化和大程度地避免廢品浪費(fèi)。
非導(dǎo)體材料和涂層
采用可選的射頻光源(GDA750輝光放電光譜儀)可以分析非導(dǎo)體材料和涂層,如玻璃,陶瓷,釉質(zhì)和油漆涂層。
GDA750可以配備60個(gè)以上的分析通道,并且能充分地滿足高分辨率和高精度的分析要求。涂(鍍)層的深度可測量至200um,表面分析和獲得的分辨率達(dá)1個(gè)原子層。
適用于質(zhì)量控制和材料研究
在金屬分析領(lǐng)域中,輝光放電分析是濃度分析和表面分析理想的手段。表面處理工藝過程中,如表面滲碳硬化或滲碳熱處理等,都可以通過分析被處理材料的表面和近表層區(qū)域?qū)崿F(xiàn)質(zhì)量控制。
采用濃度分布分析功能可以精確地測量涂(鍍)層厚度及化學(xué)成分。對于傳統(tǒng)的分析方法不能解決的材料分析問題,輝光放電光譜技術(shù)可以作為優(yōu)先選用的方法。
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