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利用NexION 2000S ICP-MS分析NMP介質(zhì)中的超痕量雜質(zhì)

閱讀:2249      發(fā)布時間:2020-03-25
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    NexION 2000S ICP-MS采用PerkinElmer通用池技術(shù),進(jìn)一步強(qiáng)化動態(tài)反應(yīng)池功能,在與存在碰撞除干擾技術(shù)局限而不得不應(yīng)用冷等離子體的競爭公司的單四極桿ICP-MS或在有機(jī)物分析方面有局限的三重四極桿質(zhì)譜儀ICP-MS相比有明顯優(yōu)勢,不僅能檢測金屬元素,還能檢測非金屬元素。PerkinElmer的UCT-ICP-MS采用動態(tài)反應(yīng)池技術(shù),在所有元素分析中都使用熱等離子體,測試有機(jī)樣品時更有優(yōu)勢,可以輕松獲得穩(wěn)定、可信的結(jié)果。

 

    NMP廣泛應(yīng)用于半導(dǎo)體工藝,用于清除光刻膠工藝后殘留的光刻膠有機(jī)物, 使用ICP-MS檢測NMP中的金屬或非金屬元素時,由于NMP自身的屬性會導(dǎo)致分析元素的離子化效率低,且NMP分解生成的氮、氧和碳會對分析物造成干擾,所以這個一直是ICP-MS分析領(lǐng)域的一-個難題。

   
    本應(yīng)用的目的是確認(rèn)NexION 2000S對高純度NMP中所含金屬和非金屬雜質(zhì)的檢測能力。

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珀金埃爾默企業(yè)管理(上海)有限公司

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