四甲基氫氧化銨（TMAH）是一種廣泛用于半導(dǎo)體光刻工藝和液晶顯示器生產(chǎn)中形成酸性光阻的基本溶劑，因此對TMAH純度的檢測變得越來越重要。由于具有快速測定各種工藝化學(xué)品中超痕量濃度待測元素的能力，電感耦合等離子體質(zhì)譜儀（ICP-MS）已成為了質(zhì)量控制*的分析工具。
然而，解決由基體帶來的多原子干擾和由于含有碳造成的基體抑制效應(yīng)是非常重要的。本應(yīng)用報告證明了NexION 300S ICP-MS去除干擾，從而在使用高溫等離子體的條件下通過一次分析就能夠?qū)MAH中全部痕量水平的雜質(zhì)元素進行測定的能力。
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