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AD-3000MIKASA米卡薩 顯影和蝕刻設(shè)備
參考價(jià): 13000
訂貨量: 1
具體成交價(jià)以合同協(xié)議為準(zhǔn)
  • AD-3000 產(chǎn)品型號(hào)
  • MIKASA/米卡薩 品牌
  • 經(jīng)銷商 廠商性質(zhì)
  • 成都市 所在地

訪問次數(shù):160更新時(shí)間:2025-05-28 15:29:10

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產(chǎn)品簡介
MIKASA米卡薩 顯影和蝕刻設(shè)備 AD-3000
顯影和蝕刻設(shè)備是半導(dǎo)體制造和微電子加工中的核心工藝裝備,主要用于圖形轉(zhuǎn)移和微納結(jié)構(gòu)加工。
產(chǎn)品介紹

MIKASA米卡薩 顯影和蝕刻設(shè)備 AD-3000


MIKASA米卡薩 顯影和蝕刻設(shè)備 AD-3000

顯影和蝕刻設(shè)備是半導(dǎo)體制造和微電子加工中的核心工藝裝備,主要用于圖形轉(zhuǎn)移和微納結(jié)構(gòu)加工。顯影設(shè)備通過化學(xué)溶液去除曝光后的光刻膠可溶部分,形成所需圖案;蝕刻設(shè)備則通過物理或化學(xué)方法去除未被光刻膠保護(hù)的基底材料,實(shí)現(xiàn)圖形轉(zhuǎn)移。

主要設(shè)備類型:

顯影設(shè)備:

噴淋式顯影機(jī)

浸漬式顯影機(jī)

超聲波輔助顯影機(jī)

蝕刻設(shè)備:

濕法蝕刻設(shè)備(化學(xué)溶液)

干法蝕刻設(shè)備(等離子體)

反應(yīng)離子蝕刻(RIE)

深硅蝕刻(DRIE)

設(shè)備優(yōu)點(diǎn)

工藝優(yōu)勢(shì):

高分辨率圖形轉(zhuǎn)移

優(yōu)異的選擇比控制

低損傷加工

生產(chǎn)效益:

高吞吐量(最高300片/小時(shí))

工藝穩(wěn)定性好(CPK>1.67)

設(shè)備利用率高(>90%)

成本優(yōu)勢(shì):

材料消耗低

維護(hù)成本可控

能耗優(yōu)化

技術(shù)優(yōu)勢(shì):

支持優(yōu)良節(jié)點(diǎn)工藝

兼容多種技術(shù)路線

便于工藝升級(jí)

質(zhì)量優(yōu)勢(shì):

缺陷率低(<0.1%)

均勻性好(<3%)

重復(fù)性高

顯影和蝕刻設(shè)備作為微納制造的關(guān)鍵裝備,其技術(shù)水平直接決定了集成電路和微器件的性能與可靠性。隨著半導(dǎo)體技術(shù)節(jié)點(diǎn)的不斷推進(jìn)和新興應(yīng)用的涌現(xiàn),新一代設(shè)備正向著更高精度、更高效率、更智能環(huán)保的方向發(fā)展。未來,這些設(shè)備將繼續(xù)在推動(dòng)信息技術(shù)進(jìn)步、賦能新興產(chǎn)業(yè)發(fā)展方面發(fā)揮不可替代的作用。

不銹鋼轉(zhuǎn)速0~3,000轉(zhuǎn)/分

基板尺寸

φ1“ ~ φ12"
(220×220mm)
聯(lián) 鎖真空吸附確認(rèn)傳感器
加工腔蓋聯(lián)鎖
噴嘴移動(dòng)超限
限制器

化學(xué)泵送

加壓罐壓力泵

化學(xué)品排放

噴霧排放
(擺動(dòng)噴嘴型)
權(quán)力AC200V 三相 15A
尺寸 (mm) 當(dāng)門打開時(shí)
720W×500H×520D
910H

步數(shù)

48 步
跳拷貝功能
程序模式10 模式重量60 公斤
工藝(標(biāo)準(zhǔn))開發(fā)商:1 個(gè)系統(tǒng)(2 個(gè)噴嘴) 沖洗:1 個(gè)系統(tǒng)(2 個(gè)噴嘴) 反
沖洗:1 個(gè)系統(tǒng)

關(guān)鍵選項(xiàng)化學(xué)溫度管理系統(tǒng)
(加壓法)
各種基板支架
安裝工作臺(tái)




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