B-52-1DWJ 赫爾槽試驗(yàn)設(shè)備的應(yīng)用場(chǎng)景主要有以下幾個(gè)方面：
電鍍工藝開(kāi)發(fā)：
確定最佳鍍液成分：通過(guò)在赫爾槽中使用不同成分比例的鍍液進(jìn)行試驗(yàn)，觀察在不同陰極電流密度下的鍍層效果，從而確定鍍液中各種金屬鹽、絡(luò)合劑、添加劑等的最佳含量。例如，在開(kāi)發(fā)新型鍍鎳工藝時(shí)，可利用該設(shè)備確定光亮劑、走位劑等添加劑的合適添加量，以獲得光亮、均勻且性能良好的鎳鍍層。
優(yōu)化工藝條件：可以研究諸如溫度、pH 值、攪拌方式及強(qiáng)度等工藝條件對(duì)電鍍效果的影響，確定大生產(chǎn)允許的陰極電流密度范圍等。比如，在鍍鉻工藝中，通過(guò)赫爾槽試驗(yàn)找到合適的溫度和電流密度范圍，使鍍鉻層具有良好的硬度和耐腐蝕性。
電鍍生產(chǎn)質(zhì)量控制：
日常鍍液監(jiān)測(cè)：在電鍍生產(chǎn)線的日常運(yùn)行中，定期取鍍液進(jìn)行赫爾槽試驗(yàn)，能夠及時(shí)發(fā)現(xiàn)鍍液成分的微小變化以及添加劑的消耗情況。如發(fā)現(xiàn)鍍層出現(xiàn)異常，可通過(guò)赫爾槽試驗(yàn)快速判斷是鍍液中哪種成分出現(xiàn)問(wèn)題，以便及時(shí)調(diào)整，保證產(chǎn)品質(zhì)量的穩(wěn)定性。
原材料檢驗(yàn)：對(duì)于新采購(gòu)的電鍍?cè)牧?，如化工原料、添加劑等，使用赫爾槽試?yàn)可以快速檢驗(yàn)其質(zhì)量和適用性。防止因原材料質(zhì)量問(wèn)題導(dǎo)致電鍍產(chǎn)品出現(xiàn)缺陷，避免在大規(guī)模生產(chǎn)中造成損失。
故障分析與解決：
分析故障原因：當(dāng)電鍍生產(chǎn)中出現(xiàn)鍍層質(zhì)量問(wèn)題，如鍍層不均勻、有麻點(diǎn)、起泡、結(jié)合力不良等故障時(shí)，赫爾槽試驗(yàn)可以幫助分析故障原因。通過(guò)在試驗(yàn)中模擬生產(chǎn)條件，改變不同因素，觀察鍍層變化，找出導(dǎo)致故障的關(guān)鍵因素。例如，若發(fā)現(xiàn)鍍層局部有燒焦現(xiàn)象，可通過(guò)赫爾槽試驗(yàn)調(diào)整電流密度、鍍液成分等，判斷是電流過(guò)大還是鍍液中某種成分不足引起的。
尋求解決方法：針對(duì)分析出的故障原因，利用赫爾槽試驗(yàn)可以進(jìn)一步探索解決方案。如確定是鍍液中雜質(zhì)含量過(guò)高導(dǎo)致故障，可通過(guò)赫爾槽試驗(yàn)嘗試不同的除雜方法，觀察哪種方法能有效去除雜質(zhì)并恢復(fù)鍍液性能。
科研教學(xué)：
電鍍機(jī)理研究：在科研領(lǐng)域，赫爾槽試驗(yàn)設(shè)備可用于研究電鍍過(guò)程中的基本原理和現(xiàn)象，如電流分布、離子遷移、成核與生長(zhǎng)等。通過(guò)對(duì)不同條件下鍍層的微觀結(jié)構(gòu)、性能進(jìn)行分析，深入了解電鍍機(jī)理，為開(kāi)發(fā)新的電鍍工藝和材料提供理論支持。
教學(xué)實(shí)踐：在相關(guān)專業(yè)的教學(xué)中，赫爾槽試驗(yàn)是一種直觀有效的教學(xué)工具。學(xué)生可以通過(guò)實(shí)際操作該設(shè)備，了解電鍍工藝的基本流程和影響因素，掌握電鍍?cè)囼?yàn)的方法和技巧，培養(yǎng)實(shí)踐能力和解決問(wèn)題的能力。
中級(jí)會(huì)員·2年
