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當前位置：北京盈思拓科技有限公司>>產品展示>>薄膜、塊體樣品制備>>ALD原子層沉積設備
大尺寸臺式熱原子層沉積系統(tǒng) ALD安瑞克(ANRIC)技術公司開發(fā)的原子層沉積(ALD)是一種氣相薄膜沉積技術，以其出色的匹配性、均勻性以及亞納米級的厚度控制而...
市面上最小的ALD，可放進手套箱，來自美國哈佛的原子層沉積系統(tǒng)兼容高溫的快速脈沖 ALD 閥，具有超快 MFC，用于集成惰性氣體吹掃。
PICOSUN®P-300BALD系統(tǒng)是專為生產MEMS設備(例如打印頭，傳感器和麥克風)以及各種3D物品(例如機械零件，玻璃或金屬薄板，硬幣，手表零...
PICOSUN™R-200高級型ALD系統(tǒng)是ALD科研設備市場的，在擁有百用戶
PICOSUN R-200 標準型ALD系統(tǒng)，PICOSUN®R-200標準ALD系統(tǒng)適用于數十種應用的研發(fā)，例如IC組件、MEMS器件、顯示器、LE...
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