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日本ULVAC愛發(fā)科小型高頻濺射設(shè)備

參   考   價: ￥ 8000

訂  貨  量: ≥1 件

具體成交價以合同協(xié)議為準(zhǔn)

產(chǎn)品型號VTR-151M

品       牌ULVAC/日本愛發(fā)科

廠商性質(zhì)經(jīng)銷商

所  在  地長沙市

更新時間：2025-06-30 14:55:10瀏覽次數(shù)：146次

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產(chǎn)地類別 進口 應(yīng)用領(lǐng)域 環(huán)保,化工,電子/電池,綜合
日本ULVAC愛發(fā)科小型高頻濺射設(shè)備
帶 RF 電源的小型高頻濺射設(shè)備。
由于具有金屬、半導(dǎo)體和絕緣體的沉積能力，因此非常適合基礎(chǔ)研究和開發(fā)實驗。

日本ULVAC愛發(fā)科小型高頻濺射設(shè)備

日本ULVAC愛發(fā)科小型高頻濺射設(shè)備


特征

它是絕緣體、金屬和半導(dǎo)體材料的濺射系統(tǒng)。

渦輪分子泵用于主泵送。

直徑為 2 英寸，3 個陰極可進行多次沉積。

磁控濺射可實現(xiàn)濺射速度 30nm/min （SiO2）。

它具有基板加熱系統(tǒng)（350°C）。

規(guī)范

型VTR-151M/SRF （SCOTT-C3）
真空性能極限壓力6,6×10-4帕
疏散時間6,6×10-3帕/5分鐘
真空室真空室金屬腔室 （直徑 310.5mm × 160mm （H））
陰極直徑 2 英寸，3 路
標(biāo)準(zhǔn)目標(biāo)直徑 2 英寸（直徑 50.8 毫米）× T1mm ×T1 毫米
濺射有效面積25 毫米
濺射速度SiO2 SiO2，沉積時超過 30nm/min
膜厚分布SiO2 SiO2，直徑 25mm 時 ±10% 以內(nèi)
基板加熱溫度最高 350°C
最高 350 攝氏度50mm ~ 90mm （可變：半固定）
排氣系統(tǒng)主泵渦輪分子泵 250 L/sec
液氮捕集阱ー
副泵油旋轉(zhuǎn)泵200L/min
油霧捕集器油霧捕集器 OMT-200A
作系統(tǒng)主閥蝶閥
副閥三通閥
自動泄漏閥選擇
控制手動控制
控制系統(tǒng)射頻電源最大 300W （0~300W 可變）
皮拉尼真空計GP-1GRY 系列
電離真空計編號：ISG1/SH2-1
設(shè)置外部尺寸1081 毫米（寬）×853 毫米（深）×1104 毫米（高）
重量400 公斤





效用

型VTR-151M/SRF （SCOTT-C3）
所需功率200V 單相 50/60Hz 3.5kVA
接地端子A 級（接地電阻/10Ω以下）
需水量2.0 L/min（水溫 ： 25°C以下、水壓 ： 200kPa（表壓））
連接（電源）乙烯基電纜（帶 R3.5-5 環(huán)形舌片端子）4m
連接（接地）接地線（帶 R5.5-8 環(huán)形舌片端子） 4m
連接（水管）Tetoron 編織軟管 （外徑 15mm × 內(nèi)徑 9mm） 4m （2 列）






尺寸圖

日本ULVAC愛發(fā)科小型高頻濺射設(shè)備



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