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X射線衍射裝置是測(cè)量物質(zhì)受到X射線照射時(shí)發(fā)生的衍射現(xiàn)象的裝置。
通過分析測(cè)量獲得的衍射圖案，可以獲得有關(guān)目標(biāo)物質(zhì)的晶體結(jié)構(gòu)的信息。X射線衍射裝置由產(chǎn)生X射線的X射線發(fā)生器、測(cè)量衍射角的測(cè)角儀和測(cè)量X射線強(qiáng)度的探測(cè)器組成。
X射線衍射儀通常用于測(cè)量晶體物質(zhì)，例如單晶、粉末和薄膜。用于有機(jī)材料、無機(jī)材料、合金、蛋白質(zhì)等各種材料的研發(fā)和分析。
X射線衍射設(shè)備的應(yīng)用
X射線衍射設(shè)備用于測(cè)量樣品受到X射線照射時(shí)發(fā)生的衍射現(xiàn)象。通過分析獲得的衍射圖案，可以評(píng)價(jià)樣品的結(jié)晶度、取向、晶格缺陷等。
此外，由于衍射圖案根據(jù)物質(zhì)的晶體結(jié)構(gòu)而不同，因此通過將未知樣品與已知物質(zhì)的衍射圖案進(jìn)行比較，可用于未知樣品的鑒定和定性分析。X射線衍射儀雖然不適合測(cè)量非晶材料等非晶材料，但可以測(cè)量各種具有結(jié)晶性的材料，如粉末、薄膜、合金等。
照射到材料上的 X 射線被材料中的電子散射。對(duì)于晶體等原子排列有一定規(guī)律的材料，散射的X射線會(huì)相互干擾并被放大或衰減，并且散射強(qiáng)度僅在某個(gè)方向上增加。這是X射線衍射。
在X射線衍射中，已知當(dāng)布拉格方程2d sinθ=nλ（d：晶格間距θ：布拉格角n：整數(shù)λ：照射的X射線的波長）I成立時(shí)，X射線的散射強(qiáng)度增加。是。即，通過固定測(cè)定中使用的波長λ，能夠求出各種衍射角2θ(入射X射線與衍射X射線之間的角度)的晶格間距d。這樣，被測(cè)物質(zhì)的原子排列就可以從測(cè)量的衍射圖案中揭示出來。
X射線衍射設(shè)備的類型
X射線衍射設(shè)備的主要類型包括粉末X射線衍射設(shè)備、單晶X射線衍射設(shè)備、薄膜X射線衍射設(shè)備。這些根據(jù)X射線照射和檢測(cè)的方法進(jìn)行分類。
該方法涉及在用 X 射線照射晶體的同時(shí)繞特定軸旋轉(zhuǎn)晶體，并以二維圖像的形式測(cè)量衍射圖案。通過使用專用軟件計(jì)算獲得的二維衍射圖，可以獲得晶體結(jié)構(gòu)的三維模型。
