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  • 硅片晶圓清洗方式

    半導(dǎo)體器件生產(chǎn)中硅片須經(jīng)嚴(yán)格清洗。微量污染也會(huì)導(dǎo)致器件失效。清洗的目的在于清除表面污染雜質(zhì),包括有機(jī)物和無(wú)機(jī)物。這些雜質(zhì)有的以原子狀態(tài)或離子狀態(tài),有的以薄膜形式或顆粒形式存在于硅片表面。有機(jī)污染包括光刻膠、有機(jī)溶劑殘留物、合成蠟和人接觸器件、工具、器皿帶來(lái)的油脂或纖維。無(wú)機(jī)污染包括重金屬金、銅、鐵、鉻等,嚴(yán)重影響少數(shù)載流子壽命和表面電導(dǎo);堿金屬如鈉等,引起嚴(yán)重漏電;顆粒污染包括硅渣、塵埃、細(xì)菌、微生物、有機(jī)膠體纖維等,會(huì)導(dǎo)致各種缺陷。清除污染的方法有物理清洗和化學(xué)清洗兩種。物理清洗物理清洗有三種
  • 硅片微電子技術(shù)領(lǐng)域名詞

    在米粒大的硅片上,已能集成16萬(wàn)個(gè)晶體管,這是科學(xué)技術(shù)進(jìn)步的又一個(gè)里程碑。地殼中含量達(dá)25.8%的硅元素,為單晶硅的生產(chǎn)提供了取之不盡的源泉。由于硅元素是地殼中儲(chǔ)量的元素之一,對(duì)太陽(yáng)能電池這樣注定要進(jìn)入大規(guī)模市場(chǎng)(massmarket)的產(chǎn)品而言,儲(chǔ)量的優(yōu)勢(shì)也是硅成為光伏主要材料的原因之一應(yīng)用硅片制成的芯片是有名的“神算子”,有著驚人的運(yùn)算能力。無(wú)論多么復(fù)雜的數(shù)學(xué)問(wèn)題、物理問(wèn)題和工程問(wèn)題,也無(wú)論計(jì)算的工作量有多大,工作人員只要通過(guò)計(jì)算機(jī)鍵盤(pán)把問(wèn)題告訴它,并下達(dá)解題的思路和指令,計(jì)算機(jī)就能在極短的
  • 熱電偶原理

    熱電偶是一對(duì)兩端連接的金屬線,當(dāng)兩端觸點(diǎn)之間產(chǎn)生溫差時(shí),在這個(gè)閉合電路中就會(huì)產(chǎn)生熱電動(dòng)勢(shì),使電路中產(chǎn)生電流。該熱電動(dòng)勢(shì)的大小和極性由兩端的溫度和兩根金屬線的組合決定,不受金屬線的粗細(xì)或長(zhǎng)度的影響。因此,可以通過(guò)預(yù)先知道特定熱電偶在每個(gè)溫度下的熱電動(dòng)勢(shì)來(lái)測(cè)量溫度。特征與傳統(tǒng)熱電偶相比,AEROPAK具有以下特點(diǎn)。1.應(yīng)用范圍廣泛小外徑使您可以測(cè)量小物體的溫度。此外,鞘狀結(jié)構(gòu)使其能夠承受高溫高壓,可在-200至1260攝氏度的寬溫度范圍內(nèi)使用。2.高響應(yīng)能力外徑較小的熱容較小,因此對(duì)溫度變化的反應(yīng)更
  • 芯片廠溫濕度超標(biāo)會(huì)造成什么嚴(yán)重的后果

    一、高溫高濕環(huán)境對(duì)芯片的電性能影響在高溫高濕環(huán)境下,芯片的電性能往往會(huì)發(fā)生不可逆性變化,主要表現(xiàn)為電阻增加、電容值下降、特性漂移等。研究表明,這是由于濕度導(dǎo)致表面吸附層的變化,同時(shí)溫度還會(huì)激發(fā)材料中的缺陷,導(dǎo)致芯片電性能損失。二、高溫高濕環(huán)境對(duì)芯片的化學(xué)反應(yīng)影響在高溫高濕環(huán)境下,芯片的化學(xué)反應(yīng)也會(huì)加劇,包括氧化、腐蝕等。在此情況下,金屬元件表面水分子的捕捉量大大增加,加速了金屬表面的腐蝕。同時(shí),氧化也會(huì)導(dǎo)致芯片的性能下降,造成器件失效。三、高溫高濕環(huán)境對(duì)芯片穩(wěn)定性的影響芯片設(shè)計(jì)時(shí)一般考慮一定范圍
  • 碳化硅的應(yīng)用

    碳化硅,是一種無(wú)機(jī)物,化學(xué)式為SiC,是用石英砂、石油焦(或煤焦)、木屑(生產(chǎn)綠色碳化硅時(shí)需要加食鹽)等原料通過(guò)電阻爐高溫冶煉而成。碳化硅在大自然也存在罕見(jiàn)的礦物,莫桑石。在C、N、B等非氧化物高技術(shù)耐火原料中,碳化硅為應(yīng)用泛、的一種,可以稱(chēng)為金鋼砂或耐火砂。中國(guó)工業(yè)生產(chǎn)的碳化硅分為黑色碳化硅和綠色碳化硅兩種,均為六方晶體,比重為3.20~3.25,顯微硬度為2840~3320kg/mm2。發(fā)展歷史碳化硅是由美國(guó)人艾奇遜在1891年電熔金剛石實(shí)驗(yàn)時(shí),在實(shí)驗(yàn)室偶然發(fā)現(xiàn)的一種碳化物,當(dāng)時(shí)誤認(rèn)為是金剛
  • 今日分享CCS圖像處理光源半球形HPD2-150SW

    玉崎新品出售質(zhì)保1年,售后無(wú)憂LED閃光燈「閃光發(fā)光燈」,瞬間最大照度可達(dá)700萬(wàn)lx。Line高速化貢獻(xiàn)、置換氙氣閃光燈,高能力閃光LED照明。發(fā)光時(shí)間細(xì)化調(diào)整,攝像頭的快門(mén)正確的配合進(jìn)行發(fā)光照射。LDR2系列環(huán)形光源采用柔性基板,可創(chuàng)造出任意角度,從高密度分布的LED處,將直射光向中心部集中進(jìn)行照射。SQRSeries(直射光)平板LED垂直裝配,直射光中心部進(jìn)行照射的SQR-56系列,使用小型LED的小型集光照明SQR-TP系列進(jìn)行排列。LED發(fā)光顏色白色的相關(guān)色溫6,500K典型值外形尺
  • 感謝江蘇先科半導(dǎo)體材料選擇我司日本代理品牌SEN紫外線洗浄改質(zhì)裝置

    先科主要致力于電子半導(dǎo)體材料,深冷復(fù)合材料以及塑料助劑材料研發(fā)和生產(chǎn)通過(guò)多種方式參與到集成電路(晶圓制造及封裝)、平板顯示(包含LCD及OLED)等電子制造產(chǎn)業(yè)鏈各個(gè)環(huán)節(jié)。紫外線洗浄改質(zhì)裝置是運(yùn)用短波長(zhǎng)紫外線進(jìn)行表面處理、干式清洗的效果而作的試驗(yàn)機(jī)利用紫外線(UV)的表面處理方法,使用化學(xué)溶液作為光敏劑,但基本上都是干法工藝,可以在大氣中處理,沒(méi)有經(jīng)過(guò)特殊改性,質(zhì)量和清潔效果良好。改性直接提高固體表面的粘合強(qiáng)度,而清洗則通過(guò)去除表面形成軟粘合層的有機(jī)污染膜,間接有助于提高粘合強(qiáng)度并穩(wěn)定質(zhì)量。主要
  • UV照射實(shí)驗(yàn)如何在光照模擬倉(cāng)內(nèi)獲得高照度環(huán)境?

    一、選用適當(dāng)?shù)腢V光源選擇UV光源是關(guān)鍵,不同的應(yīng)用需要不同波長(zhǎng)和強(qiáng)度的UV光源。選定的UV光源能夠提供所需的UV波長(zhǎng)范圍,有些應(yīng)用需要UV-A波長(zhǎng)范圍(320400納米),有的能需要UV-B(280-320納米)或UV_C(100-280納米)。根據(jù)應(yīng)用需求,確保UV光源提供足夠高的照射強(qiáng)度。例如為了實(shí)現(xiàn)高照度環(huán)境,某科研單位采用了SEN日森UV清洗機(jī)PM907B-6高強(qiáng)度紫外燈SUV-WCUS-75-GYB作為光源。該紫外燈具有較高的發(fā)光效率和輻射強(qiáng)度,能夠輸出高能量的UV-_A光譜,波譜準(zhǔn)
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