目錄:南京智聯(lián)光學科技有限公司>>磨拋機>> SAPHIR 560 / RUBIN 520研磨拋光機
| 產(chǎn)地類別 | 國產(chǎn) | 價格區(qū)間 | 面議 |
|---|---|---|---|
| 應用領域 | 化工,生物產(chǎn)業(yè),能源 |
Saphir 560（Rubin 520）是新一代等徑雙盤磨拋機，它采用創(chuàng)新 的磨拋頭，工作盤直徑為200-300 mm。
Rubin 520
研磨拋光機的磨拋頭配備了一個自動防護罩，為安全操作設定了新 標準。單點力和中心力加載、程序存儲、集成的自動 加液系統(tǒng)及材料磨削量精確控制只是其部分功能。帶氣動夾持的電動高度設置功能，結(jié)合主機的所有其他特征，saphir 550滿 足最高的制樣需求。磨削深度可以按照0.01 mm的精度預設，并在制樣過程中全自動測量。在達到預設值時，制樣過程會自動停止。
帶有Rubin520的雙盤研磨/拋光裝置
單點力和中心力控制
磨盤速度和動力頭速度可調(diào)
觸摸屏式的電子控制
可儲存程序
動力頭可順時針/逆時針旋轉(zhuǎn)
高度和側(cè)向位置記憶功能
| 工作盤 | ? 200-300 mm |
| 樣品數(shù)量（單點） | 1-6個 樣品 ? 50 mm |
| 單點加載壓力 | 5-100 N |
| 中心加載壓力 | 基于夾持器 |
| 連接電源 | 5.5 kVA |
| 運行功率（基礎） | 2x 0.75 kW S6/40% |
| 運行功率（研磨控制頭部分） | 0.17 kW S1 |
| 轉(zhuǎn)速（磨拋機） | 50 - 600 rpm |
| 轉(zhuǎn)速（研磨控制頭部分） | 30 -150 rpm |
| 寬 x 高 x 深 | 1020 x 550 - 650 x 660 mm |
| 重量 | ~ 110 千克 |
| 水壓 | 1x 進水 R?" 最大 6 bars |
內(nèi)容可能會進行修改或更正
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