研磨 拋光機器人 參考價：面議
研磨 拋光機器人操作過程通過直觀的觸屏控制自動進行。中心力夾具易于手動松卸和緊固，簡化了制樣的準(zhǔn)備過程。磨拋介質(zhì)自動更換，所有的參數(shù)在進程中均可以直接調(diào)整。帶有...
電解拋光腐蝕機 參考價：面議
QETCH 100 M電解拋光腐蝕機其操作簡便性和功能強大性。帶有樹脂涂層的鋁制外殼滿足功能性、穩(wěn)定性和設(shè)計的最高要求。所有敏感部件出于運輸和現(xiàn)場操作的考慮都得...
PlanarMet™ 300 預(yù)磨機 參考價：面議
PlanarMet™ 300 預(yù)磨機配備有高扭矩、連續(xù)工作機制和5.7 Hp電機，并提供了在價格更高的大型落地式預(yù)磨機中才常見的高磨削率、便利性功能...
預(yù)磨機 參考價：面議
SAPHIR 375預(yù)磨機采用中心力加載的磨拋頭可以順時針或逆時針旋轉(zhuǎn)，并可調(diào)節(jié)轉(zhuǎn)速和壓力至最佳狀態(tài)。自動磨削量控制系統(tǒng)可監(jiān)視去除速率并控制磨石修整過程。
VibroMet™ 2 振動拋光機 參考價：面議
VibroMet™ 2 振動拋光機適用于在各種材料上制備高質(zhì)量的拋光表面，包括電子背散射衍射分析 (EBSD) 應(yīng)用。每分鐘7200個周期的橫向移動...
Planar磨石 參考價：面議
Planar磨石是設(shè)計用于PlanarMet 300的多用途磨盤。其能夠提供高磨削率和一致的劃痕圖案。可在磨削過程中提供快速的磨削時間，同時將表面損傷降至低。 ...
金剛石磨盤 參考價：面議
提供長壽命研磨表面，可為各種材料提供出色的表面平整度。 標(biāo)樂（Buehler）金剛石磨盤中的金剛石顆粒提供了一致性的去除率和更長的使用壽命，只需偶爾修整。
拋光布 參考價：面議
選用的拋光布類型主要取決于要處理材料的類型和最終分析要求。標(biāo)樂（Buehler）提供各種材質(zhì)、編織方式和絨毛長短的，滿足每一種應(yīng)用需求。
金剛石懸浮液及研磨膏 參考價：面議
金剛石懸浮液及研磨膏:由于對水的敏感性或鉆石的嵌入，某些材料與傳統(tǒng)的水基懸浮液不兼容。 與水敏感的材料一起使用時，油基MetaDi單晶金剛石懸浮液以及MetaD...
氧化鐵拋光液 參考價：面議
氧化鐵拋光液旨在去除表面變形的最后一層，并準(zhǔn)備樣品進行分析。 肉眼可能看不到變形，但是對于某些標(biāo)本分析技術(shù)，必須將其消除。
特定的研磨和拋光耗材 參考價：面議
特定的研磨和拋光耗材:某些特殊的應(yīng)用需要特定的耗材及解決方案。特殊夾具搭配各類研磨盤和研磨粉可用于電路板的磨拋。(空格分隔,最多3個,單個標(biāo)簽最多10個字符)
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