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橢偏儀的基本原理和測量特點

閱讀:1980        發(fā)布時間:2022-8-22
   橢偏儀是一種用于探測薄膜厚度、光學常數(shù)以及材料微結構的光學測量儀器。由于測量精度高,適用于超薄膜,與樣品非接觸,對樣品沒有破壞且不需要真空,使得橢偏儀成為一種JI具吸引力的測量儀器。
  基本原理:
  橢偏儀利用偏振光測量薄膜或界面參量,通過測量被測樣品反射(或透射)光線偏振狀態(tài)的變化來獲得樣品參量。
  橢偏儀的應用:
  由于測量精度高,適用于超薄膜,與樣品非接觸,對樣品沒有破壞且不需要真空,使得橢偏儀成為一種JI吸引力的測量儀器。橢偏儀/橢圓偏振儀現(xiàn)在已被廣泛應用于材料、物理、化學、生物、醫(yī)藥等領域的研究、開發(fā)和制造過程中。
  可測材料:半導體、介電材料、有機高分子聚合物、金屬氧化物、多層膜物質和石墨烯等等。
  橢偏法測量具有如下特點:
  1.能測量很薄的膜(1nm),且精度很高,比干涉法高1-2個數(shù)量級。
  2.是一種無損測量,不必特別制備樣品,也不損壞樣品,比其它精密方法:如稱重法、定量化學分析法簡便。
  3.可同時測量膜的厚度、折射率以及吸收系數(shù)。因此可以作為分析工具使用。
  4.對一些表面結構、表面過程和表面反應相當敏感。是研究表面物理的一種方法。
 

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