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納米壓印系統(tǒng)的原理
隨著科技的進步和發(fā)展，人們從理論和實驗研究中發(fā)現(xiàn)，當(dāng)許多材料被加工為具有納米尺度范圍的形狀時，會呈現(xiàn)出與大塊材料完*不同的性質(zhì)。這些特異的性質(zhì)向人們展現(xiàn)了令人興奮的應(yīng)用前景。在開發(fā)超大規(guī)模集成電路工藝技術(shù)的過程中，如電子束與X射線曝光，聚焦離子束加工技術(shù)等。但這些技術(shù)的缺點是設(shè)備昂貴，產(chǎn)量低，因而產(chǎn)品價格高昂。商用產(chǎn)品的生產(chǎn)必須是廉價的、操作簡便的，可工業(yè)化批量生產(chǎn)的、高重復(fù)性的；對于納米尺度的產(chǎn)品，還必須是能夠保持它所*有的圖形的精確度與分辯率。
納米壓印系統(tǒng)可以實現(xiàn)微米和納米尺度圖形結(jié)構(gòu)的復(fù)制加工，采用單面氣壓方式，有力保證了壓印的均勻性，減少碎片的發(fā)生。中間聚合物轉(zhuǎn)印則可以較大程度保護原始模具，延長使用壽命。
納米壓印系統(tǒng)是基于其機械壓印原理，將具有納米級尺寸圖案的模板在機械力的作用下壓到涂有高分子材料的襯底上，進行等比例壓印復(fù)制圖案的工藝。其實質(zhì)就是液態(tài)聚合物對模板結(jié)構(gòu)腔體的填充過程和固化后聚合物的脫模過程。其加工分辨力只與模版圖案的特征尺寸有關(guān)，而不受光學(xué)光刻的*短曝光波長的物理限制。具有避免使用昂貴的光源及投影光學(xué)系統(tǒng)，不受光學(xué)光刻的*短曝光波長的物理限制和工藝簡便等特點，其高精度、高分辨率、廉價的特點使其很可能成為下一代重要的光刻技術(shù)，一種重要的微納米復(fù)制技術(shù)。