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電子斑點(diǎn)模式干涉儀（ESPI）是一種研究表面變形的非破壞性光學(xué)方法。它依賴于測(cè)試物體的漫反射光與參考光束之間的干涉。

這是一種干涉測(cè)量技術(shù)，因此我們可以測(cè)量平面內(nèi)或平面外的亞微米級(jí)位移。通過 CCD 相機(jī)記錄變形前后的圖像，并使用圖像分析軟件進(jìn)行分析。這些變化可借助所提供的軟件進(jìn)行分析，以找出變形。

由于這種干涉儀對(duì)振動(dòng)噪聲非常敏感，因此霍爾馬科的 ESPI 配備了一個(gè)振動(dòng)隔離光學(xué)面包板。輸出功率為 5mW 的線性偏振 632.8nm He-Ne 激光器用作光源。分光器將激光束一分為二。透射光束通過空間濾波器組件均勻地照亮測(cè)試物體，而反射光束則作為參考光束落在 CCD 上。變焦鏡頭和 CCD 捕捉到被照射測(cè)試物體的圖像。

我們的 ESPI 系統(tǒng)允許用戶在同一系統(tǒng)中執(zhí)行電子斑點(diǎn)剪切干涉測(cè)量，而無需干擾光學(xué)設(shè)置和對(duì)準(zhǔn)。Holmarc 的相機(jī)應(yīng)用軟件可幫助捕捉和分析圖像。

規(guī)格

    激光器：He-Ne 5mW @ 632.8nm。

    光束擴(kuò)展器：帶針孔的 20 倍顯微鏡物鏡。

    變焦鏡頭：尼康

    攝像頭：1/2.5" 5 MPC MOS 彩色攝像頭

    軟件 ：    Holmarc 相機(jī)應(yīng)用軟件和圖像分析軟件。

    光學(xué)面包板：1200 毫米 x 900 毫米，帶隔振支架。