首頁>>鄭州科探儀器設(shè)備有限公司>>視頻展示>>小型濺射儀>>直流磁控濺射儀鍍膜原理
直流磁控濺射儀的工作原理基于等離子體放電和磁場約束效應(yīng)：
輝光放電：在真空腔室內(nèi)通入惰性氣體（如Ar），通過施加直流高壓，兩極間形成電場，引發(fā)氣體電離并產(chǎn)生等離子體。
磁場約束：靶材表面設(shè)置正交磁場，通過洛倫茲力約束電子運(yùn)動軌跡，延長電子路徑，增加與氣體的碰撞概率，從而提高等離子體密度和濺射效率。
濺射成膜：高能離子轟擊靶材表面，使靶材原子沉積到基材上形成致密薄膜。此過程需控制熱量，避免樣品灼傷。
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