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　　進階增材制造微納光學技術：
 

　　Nanoscribe的高精度3D雙光子無掩模光刻系統(tǒng)可以實現(xiàn)幾乎任何三維結構的打印制作，并同時具備光學質量表面。這有效規(guī)避了機械工具所施加的限制以及減材制造常見的幾何或工藝設計局限?？梢詫崿F(xiàn)打印單個微透鏡，自由曲面光學器件和復合透鏡系統(tǒng)等，無需對單個組件進行打印后在組裝起來。
 

　　Nanoscribe的Photonic Professional GT2提供世界上高分辨率的3D無掩模光刻技術，用于快速，超高精度的微納加工，可以輕松3D微納光學制作?？梢源钆洳煌幕澹úＡ?，硅晶片，光子和微流控芯片等，也可以實現(xiàn)芯片和光纖上直接打印。
 

　　Nanoscribe公司的的IP系列光刻膠配合使用并制作高級微納光學器件。
 

　　IP-S光敏樹脂非常適合打印具有高形狀精度，光學質量表面的微納結構，例如，用IP-S可以滿足打印優(yōu)于1 µm形狀精度和小于10 nm Ra 表面粗糙度微透鏡陣列。此外，新型IP-n162光敏樹脂具有高折射率(1.62)和高阿貝數(shù)(25)的特點，其光學性能可與常規(guī)用于注塑成型的光學聚合物(例如聚碳酸酯和聚酯等)相媲美。這種材料可以用于微納光學原型制作，從而避免了耗時昂貴的金剛石研磨注模迭代。
 

　　Nanoscribe Photonic Professional GT2高精度3D打印機使用雙光子聚合(2PP)來產生幾乎任何3D形狀：晶格、木堆型結構、自由設計的圖案、順滑的輪廓、銳利的邊緣、表面的和內置倒扣以及橋接結構。
 

　　Photonic Professional GT2高精度3D打印機 結合了設計的靈活性和操控的簡潔性，以及廣泛的材料-基板選擇。因此，它是一個理想的科學儀器和工業(yè)快速成型設備，適用于多用戶共享平臺和研究實驗室。