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方塊電阻測試儀技術(shù)指標(biāo)
閱讀：224 發(fā)布時(shí)間：2025-7-24| 提 供 商 | 山東鴻得實(shí)業(yè)有限公司 | 資料大小 | 81.1KB |
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本設(shè)備采用四探針法專用于金屬薄膜方塊電阻，HD-KDB-2B 測試儀嚴(yán)格參照國際標(biāo)準(zhǔn)
SEMI MF 374-0307 對設(shè)備的要求研制，運(yùn)用了*半導(dǎo)體薄層測量技術(shù)，無需特別制
樣，可測不規(guī)則的金屬薄膜。
技術(shù)指標(biāo)：方塊電阻測量范圍（3 位有效數(shù)字）：0.00001-0.3Ω/□。
測量電流分兩檔：100mA 和 1000mA。
最小分辨率：0.00001Ω/□。
試樣尺寸：直徑大于 32mm。
試樣厚度：t≤5μm（約）。
探針間距：1.59mm。
成套設(shè)備包含：
HD-KDB-2B 主機(jī) 一臺(tái)
HD-KDJ-1A 手動(dòng)測試架 一臺(tái)
HD-KDT-5 紅寶石四探針頭 一個(gè)
電源線 一根
四探針頭連接線 一根
選購件：
微控制器及配套測試系統(tǒng) 一套