光化學反應儀CY品牌系列主要用于研究氣相或液相介質、固定或流動體系、紫外光或模擬可見光照、以及反應容器是否負載光催化劑等條件下的光化學反應。具有提供分析反應產(chǎn)物和自由基的樣品，測定反應動力學常數(shù)，測定量子產(chǎn)率等功能，廣泛應用化學合成、環(huán)境保護以及生命科學等研究領域。
目前，各種干擾在各類工業(yè)現(xiàn)場中均存在，所以儀表及控制系統(tǒng)的可靠性直接影響到現(xiàn)代化工業(yè)生產(chǎn)裝置安全、穩(wěn)定運行，系統(tǒng)的抗干擾能力是關系到整個系統(tǒng)可靠運行的關鍵。隨著DCS、現(xiàn)場總線技術的應用，被控對象和被測信號往往分布在各個不同的地方，并且他們與控制站之間也有相當長的距離，因此，信號線和控制線均可能是長線。其次，現(xiàn)場往往有許多強電設備，它們的啟動和工作將對測控系統(tǒng)產(chǎn)生強烈的影響。同時來自空間的輻射干擾、系統(tǒng)外引線干擾等問題尤為突出。因此，除有用信號外，由于各種原因必然會有一些與被測信號無關的電流或電壓存在，這種無關的電流或電壓通稱“干擾（噪聲）"。在測量過程中，這些干擾若不能很好地處理，那它將歪曲測量結果，嚴重時甚至使儀表或計算機不能工作。大量實踐說明，抗干擾性能是各種電子測量裝置的一個很重要的問題，尤其是DCS、現(xiàn)場總線技術的廣泛應用和迅速發(fā)展，有效地排除和抑制各種干擾，已成為必需探討和解決的迫切問題，因為干擾不僅能造成邏輯混亂，使系統(tǒng)測量和控制失靈，以致降低產(chǎn)品的質量，甚至使生產(chǎn)設備損壞，造成事故。因此，抗干擾技術在儀表測控系統(tǒng)的設計、制造、安裝和日常維修中都必需給予足夠的重視。
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