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電合成/分析流通池技術(shù)分析
2022-11-14 閱讀(1144)
電合成/分析流通池技術(shù)分析
以往的電合成是使用大容量電解槽或使用板電極的流動電解槽進(jìn)行電解，電解效率相對較低，我們已將可簡單快速電解的小容量柱狀電解式流動槽商品化。
特征
柱式電解槽的工作電極表面積極大（ HX-201（2ml）約為3000 cm 2 ），電極表面擴(kuò)散層薄，可快速實(shí)現(xiàn)定量（庫侖）電解.
即使對于緩慢的電極反應(yīng)，也可以進(jìn)行定量電解。
由于它可以很容易地連接到光學(xué)測量單元和各種反應(yīng)系統(tǒng)，因此適用于短壽命離子的研究。
由于電解槽可以多級連接，因此可以對痕量金屬離子進(jìn)行濃縮、分離和定量測量。
附有專用參考電極，可輕松獲得高重現(xiàn)性的數(shù)據(jù)。
準(zhǔn)備工作電極（在多孔玻璃管中填充碳纖維的單元）作為備件，便于更換和組裝。
用法
水性和非水性無機(jī)和有機(jī)化合物的電合成
自由基來源及短壽命產(chǎn)物研究
痕量金屬離子的濃縮、分離和定量
電解去除流動系統(tǒng)（如 HPLC 和 FIA）中的干擾物質(zhì)
應(yīng)用
電解效率測量示例
| 電解槽 | HX-201 |
|---|---|
| 支持電解質(zhì) | 0.5M lv化鉀 |
| 注入電解液 | K3Fe ( CN) 6 |
| 進(jìn)樣量和濃度 | 2毫升 |
| 電解電位 | -100mV，VS，SCE |
K3 的電解示例（電解電位的測量）
| 電解槽 | HX-201 |
|---|---|
| 支持電解質(zhì) | 0.1M HCl:EtOH=1:1 |
| 注入電解液 | 5mM 維生su K3 |
| 注射量 | 20微升 |
| 速度 | 1.0毫升/分鐘 |
維生su K3的電解例子（維維生su K3的電解反應(yīng)機(jī)理）
維生su K3 的電解示例（維生su K3 的電解產(chǎn)物的吸收光譜）
| 電解槽 | HX-201 |
|---|---|
| 支持電解質(zhì) | 0.1M HCl:EtOH=1:1 |
| 注入電解液 | 20 μl 5 mM 維生su K3 |
| 速度 | 1.0毫升/分鐘 |
| 電解電位 | 0.95VVS, SCE |
