三靶直流磁控濺射鍍膜儀 參考價(jià)：210000
三靶直流磁控濺射鍍膜儀可用于制備單層或多層鐵電薄膜、導(dǎo)電薄膜、合金薄膜、半導(dǎo)體薄膜、陶瓷薄膜、介質(zhì)薄膜、光學(xué)薄膜、氧化物薄膜、硬質(zhì)薄膜、聚四氟乙烯薄膜等
三英寸三靶磁控濺射鍍膜儀 參考價(jià)：356000
三英寸三靶磁控濺射鍍膜儀可用于制備單層或多層鐵電薄膜、導(dǎo)電薄膜、合金薄膜、半導(dǎo)體薄膜、陶瓷薄膜、介質(zhì)薄膜、光學(xué)薄膜、氧化物薄膜、硬質(zhì)薄膜、聚四氟乙烯薄膜等。該三...
單靶直流磁控濺射鍍膜儀 參考價(jià)：159800
單靶直流磁控濺射鍍膜儀可用于制備單層或多層鐵電薄膜、導(dǎo)電薄膜、合金薄膜、半導(dǎo)體薄膜、陶瓷薄膜、介質(zhì)薄膜、光學(xué)薄膜、氧化物薄膜、硬質(zhì)薄膜、聚四氟乙烯薄膜等
三靶向上磁控濺射鍍膜儀 參考價(jià)：298000
三靶向上磁控濺射鍍膜儀可用于制備單層或多層鐵電薄膜、導(dǎo)電薄膜、合金薄膜、半導(dǎo)體薄膜、陶瓷薄膜、介電薄膜、光學(xué)薄膜、氧化膜、硬薄膜、聚四氟乙烯薄膜等
高真空三靶磁控濺射鍍膜儀自動(dòng)控制 參考價(jià)：198000
高真空三靶磁控濺射鍍膜儀自動(dòng)控制可用于制備單層或多層鐵電薄膜、導(dǎo)電薄膜、合金薄膜等。該三靶磁控濺射鍍膜儀與同類(lèi)設(shè)備相比，其不僅應(yīng)用廣泛，且具有體積小便于操作的優(yōu)...
桌面型磁控濺射鍍膜儀下置靶槍 參考價(jià)：185000
桌面型磁控濺射鍍膜儀下置靶槍是一種的物**相沉積設(shè)備，廣泛應(yīng)用于半導(dǎo)體、光電子、顯示技術(shù)和表面工程等領(lǐng)域。該設(shè)備采用磁控濺射技術(shù)，通過(guò)磁場(chǎng)增強(qiáng)離子化效率，從而實(shí)...
D型腔體單靶直流磁控濺射鍍膜儀 參考價(jià)：380000
D型腔體單靶直流磁控濺射鍍膜儀可用于制備單層或多層鐵電薄膜、導(dǎo)電薄膜、合金薄膜、半導(dǎo)體薄膜、陶瓷薄膜、介質(zhì)薄膜、光學(xué)薄膜等
矩形腔室磁控濺射鍍膜儀 參考價(jià)：458000
矩形腔室磁控濺射鍍膜儀是一種利用磁控濺射技術(shù)進(jìn)行薄膜沉積的高精度設(shè)備.其核心原理是通過(guò)在真空環(huán)境下，利用高能離子轟擊靶材，使靶材原子或分子濺射出來(lái)并沉積在基片表...
桌面型鋁合金腔體單靶磁控濺射鍍膜儀 參考價(jià)：59000
桌面型鋁合金腔體單靶磁控濺射鍍膜儀是一種緊湊型鍍膜設(shè)備，采用磁控濺射技術(shù)在基片表面沉積薄膜
桌面型雙靶磁控濺射鍍膜儀不銹鋼腔體 參考價(jià)：89000
本設(shè)備為桌面型雙靶磁控濺射鍍膜儀不銹鋼腔體，可用于金屬薄膜的制備，在電子領(lǐng)域、光學(xué)領(lǐng)域、特殊陶瓷制備等領(lǐng)域均有應(yīng)用，也可實(shí)驗(yàn)室SEM樣品制備
旋轉(zhuǎn)粉末磁控濺射鍍膜儀 參考價(jià)：195600
旋轉(zhuǎn)粉末磁控濺射鍍膜儀主要用于粉體材料、顆粒材料的包覆制備,用于改善粉體或顆粒的表面性能、分散性能、穩(wěn)定性能，賦予其導(dǎo)電性、耐腐蝕性等新功能。
雙靶磁控濺射鍍膜儀 參考價(jià)：169800
雙靶磁控濺射鍍膜儀為我公司研發(fā)的配有兩個(gè)靶位的小型實(shí)驗(yàn)室用鍍膜儀，可用于制備單層或多層鐵電薄膜、導(dǎo)電薄膜、合金薄膜、半導(dǎo)體薄膜、陶瓷薄膜、介質(zhì)薄膜、光學(xué)薄膜等
分體式單靶磁控鍍膜儀 參考價(jià)：269500
本設(shè)備為分體式單靶磁控鍍膜儀，可用于金屬薄膜的制備，在電子領(lǐng)域、光學(xué)領(lǐng)域、特殊陶瓷制備等領(lǐng)域均有應(yīng)用，也可實(shí)驗(yàn)室SEM樣品制備。
帶偏壓雙靶磁控鍍膜儀 參考價(jià)：389500
帶偏壓雙靶磁控鍍膜儀為我公司研發(fā)的配有兩個(gè)靶位的小型實(shí)驗(yàn)室用鍍膜儀，可用于制備單層或多層鐵電薄膜、導(dǎo)電薄膜、合金薄膜、半導(dǎo)體薄膜、陶瓷薄膜、介質(zhì)薄膜、光學(xué)薄膜等...
雙靶磁控濺射鍍膜儀 參考價(jià)：259800
雙靶磁控濺射鍍膜儀采用靶下置樣品臺(tái)在上方的布局。雙靶DCRF磁控濺射鍍膜儀(靶下置型)兩個(gè)靶位，直流射頻雙電源，可用于制備單層或多層鐵電薄膜、導(dǎo)電薄膜、合金薄膜...
?桌面型雙靶直流磁控鍍膜儀 參考價(jià)：198000
?桌面型雙靶直流磁控鍍膜儀可用于金屬薄膜的制備，在電子領(lǐng)域、光學(xué)領(lǐng)域、特殊陶瓷制備等領(lǐng)域均有應(yīng)用，尤其是實(shí)驗(yàn)室SEM樣品制備，?雙靶直流磁控鍍膜儀采用旋轉(zhuǎn)加熱樣...
桌面型不銹鋼腔體雙靶磁控鍍膜儀 參考價(jià)：158000
桌面型不銹鋼腔體雙靶磁控鍍膜儀，可用于金屬薄膜的制備，在電子領(lǐng)域、光學(xué)領(lǐng)域、特殊陶瓷制備等領(lǐng)域均有應(yīng)用，也可實(shí)驗(yàn)室SEM樣品制備
單室磁控濺射鍍膜儀 參考價(jià)：210000
單室磁控濺射鍍膜儀主要由濺射真空室、磁控濺射靶、基片水冷加熱臺(tái)、工作氣路、抽氣系統(tǒng)、真空測(cè)量、電控系統(tǒng)及安裝機(jī)臺(tái)等部分組成。磁控濺射鍍膜儀可廣泛應(yīng)用于大專(zhuān)院校、...
可程控磁控濺射鍍膜儀 參考價(jià)：265000
可程控磁控濺射鍍膜儀為單腔室結(jié)構(gòu)，主要由濺射真空室、磁控濺射靶、離子轟擊、公轉(zhuǎn)基片臺(tái)、光加熱系統(tǒng)、濺射電源、工作氣路、真空獲得系統(tǒng)、安裝機(jī)臺(tái)、真空測(cè)量、水冷卻及...
真空磁控濺射鍍膜系統(tǒng) 參考價(jià)：189000
真空磁控濺射鍍膜系統(tǒng)主要由濺射真空室、永磁磁控濺射靶（三個(gè)靶）、單基片加熱臺(tái)、直流電源、射頻電源、工作氣路、抽氣系統(tǒng)、真空測(cè)量、電控系統(tǒng)及安裝機(jī)臺(tái)等部分組成。磁...
小型單靶磁控濺射鍍膜儀 參考價(jià)：100000
小型單靶磁控濺射鍍膜儀是我公司自主研發(fā)的一款高性?xún)r(jià)比磁控濺射鍍膜設(shè)備，具有小型化、標(biāo)準(zhǔn)化的特點(diǎn)。磁控靶有1英寸、2英寸可以選擇，客戶(hù)可以根據(jù)所鍍基板的大小自主選...
單靶磁控濺射鍍膜儀(直流) 參考價(jià)：212100
單靶磁控濺射鍍膜儀(直流)我公司研發(fā)的實(shí)驗(yàn)室專(zhuān)用鍍膜儀，典型的高速低溫濺射。單靶磁控濺射鍍膜儀可選配功率從500W-1000W的直流電源。
單靶磁控濺射鍍膜儀（射頻） 參考價(jià)：168000
單靶磁控濺射鍍膜儀（射頻）我公司研發(fā)的實(shí)驗(yàn)室專(zhuān)用鍍膜儀，典型的高速低溫濺射。單靶磁控濺射鍍膜儀可選配500W-1000W不等的射頻電源。
雙靶磁控濺射鍍膜儀(直流) 參考價(jià)：面議
雙靶磁控濺射鍍膜儀(直流)高速低溫濺射。雙靶磁控濺射鍍膜儀可選配功率從500W-1000W不等的直流電源。(空格分隔,最多3個(gè),單個(gè)標(biāo)簽最多10個(gè)字符)
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