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真空卷繞蒸發(fā)鍍膜機(jī)上實(shí)現(xiàn)鍍透明氧化鋁膜

      發(fā)布時(shí)間:2025-08-14
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在真空卷繞蒸發(fā)鍍膜機(jī)上實(shí)現(xiàn)透明氧化鋁(Al?O?)薄膜的沉積,需要解決高溫蒸發(fā)、氧化反應(yīng)控制、卷繞均勻性等核心問題。以下是具體實(shí)施方案及關(guān)鍵技術(shù)要點(diǎn):

 

1. 工藝方案設(shè)計(jì)

(1) 蒸發(fā)源選擇

蒸發(fā)方式

適用性分析

推薦方案

電子束蒸發(fā)

可蒸發(fā)高熔點(diǎn)材料(Al?O?熔點(diǎn)2050℃),但易產(chǎn)生噴濺

需加裝離子束輔助

電阻蒸發(fā)

成本低但難達(dá)到Al?O?蒸發(fā)溫度(需>1800℃

不推薦

磁控濺射

雖非蒸發(fā)鍍膜,但可兼容卷繞系統(tǒng)(需改造靶材布局)

備選方案

最終選擇:
采用電子束蒸發(fā)+等離子體輔助反應(yīng)沉積(PAR),在蒸發(fā)鋁的同時(shí)通入氧氣,通過等離子體激發(fā)(RF 13.56MHz)促進(jìn)氧化鋁生成。

(2) 鍍膜系統(tǒng)配置

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2. 關(guān)鍵工藝參數(shù)優(yōu)化

(1) 蒸發(fā)控制

鋁蒸發(fā)速率:0.5-2 nm/s(通過電子束電流6-10kV/100-300mA調(diào)節(jié))

氧分壓:2×10?2 - 5×10?2 Pa(過高導(dǎo)致速率下降,過低則氧化不充分)

基材溫度:80-150℃(柔性聚合物基材需<120℃)

(2) 等離子體輔助

參數(shù)

典型值

作用機(jī)制

RF功率

100-300W

離化氧氣生成活性氧物種

偏壓

-50V-100V

增強(qiáng)膜層致密度

等離子體間距

50-100mm

平衡均勻性與活化效率

(3) 卷繞系統(tǒng)參數(shù)

卷速:0.1-1 m/min(對(duì)應(yīng)膜厚50-500nm

張力控制:10-20N(避免基材變形)

冷卻輥溫度:15-25℃(防止熱累積)

3. 膜層性能調(diào)控

(1) 光學(xué)性能優(yōu)化

折射率控制:1.62-1.67(通過氧鋁比調(diào)節(jié))

方法:在線光學(xué)監(jiān)控(550nm處透射率>85%

消光系數(shù):<0.001(避免金屬鋁殘留)

(2) 機(jī)械性能增強(qiáng)

硬度:>8 GPa(通過離子束輔助沉積實(shí)現(xiàn))

附著力:通過Ar等離子體預(yù)處理(50W, 60s)使PET基材表面能>50mN/m

(3) 阻隔性能提升

水汽透過率(WVTR):<10?3 g/m2/day(需膜厚>100nm且無針孔)

檢測(cè)方法:鈣測(cè)試法(85/85%RH

 

4. 典型應(yīng)用案例

(1) 柔性電子封裝

需求:在PET基材(厚度125μm)上鍍300nm Al?O?阻隔層

工藝:

電子束蒸發(fā)鋁(速率1.2nm/s

氧氣流量20sccm,RF功率200W

卷速0.3m/min,張力15N

結(jié)果:

可見光透射率88%

WVTR 5×10?? g/m2/day

(2) 光伏背板

挑戰(zhàn):避免卷繞過程中的膜層裂紋

解決方案:

采用分段沉積(每循環(huán)鍍50nm,間隔冷卻10s

添加SiO?過渡層(厚度10nm)降低內(nèi)應(yīng)力

5. 常見問題與對(duì)策

問題

原因分析

解決方案

膜層發(fā)灰/不透明

鋁未充分氧化

提高氧分壓或RF功率

卷材邊緣膜厚不均

等離子體分布不均勻

增加等離子體源線性掃描

膜層脫落

基材表面污染或應(yīng)力過大

加強(qiáng)預(yù)清洗,降低沉積速率

 

6. 技術(shù)升級(jí)方向

(1) 多蒸發(fā)源協(xié)同

Al+Mg共蒸發(fā):制備Mg摻雜Al?O?,提升介電性能

動(dòng)態(tài)擋板技術(shù):實(shí)現(xiàn)橫向膜厚梯度(用于光學(xué)濾波片)

(2) 智能化控制

機(jī)器學(xué)習(xí)優(yōu)化:

輸入:蒸發(fā)速率、氧分壓、透射率實(shí)時(shí)數(shù)據(jù)

輸出:自動(dòng)調(diào)節(jié)RF功率的PID參數(shù)

數(shù)字孿生系統(tǒng):ANSYS模擬卷繞過程中的熱-力耦合效應(yīng)

(3) 環(huán)保工藝

鋁回收系統(tǒng):冷凝板收集未沉積鋁,回收率>90%

低能耗設(shè)計(jì):采用脈沖等離子體(占空比30%)降低40%能耗

結(jié)論:

在真空卷繞蒸發(fā)鍍膜機(jī)上實(shí)現(xiàn)高質(zhì)量透明氧化鋁膜需重點(diǎn)控制氧化反應(yīng)充分性與卷繞動(dòng)態(tài)穩(wěn)定性。通過電子束蒸發(fā)結(jié)合等離子體輔助,可在柔性基材上獲得兼具高透光率和優(yōu)異阻隔性能的薄膜。未來發(fā)展方向包括:
大面積均勻性提升(幅寬>2m);
超薄連續(xù)沉積(<10nm無針孔);
與其它功能膜層(如SiO?、ITO)的在線復(fù)合沉積。

 


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