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科特萊思科熱阻蒸發(fā)鍍膜系統(tǒng)-Nano-36

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更新時(shí)間:2023-09-08 11:31:28瀏覽次數(shù):2415次

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樣品倉尺寸 400*400mm 樣品臺尺寸 300*300mm
應(yīng)用領(lǐng)域 電子/電池,鋼鐵/金屬,航空航天,汽車及零部件,電氣
科特萊思科熱阻蒸發(fā)鍍膜系統(tǒng)-Nano-36
科特萊思科熱阻蒸發(fā)鍍膜系統(tǒng)Nano36擁有LOAD LOCK預(yù)真空進(jìn)樣室(可選)、前開門蒸發(fā)腔體、冷凝泵和干泵、多個(gè)熱阻蒸發(fā)源或OLED低溫蒸發(fā)源。

科特萊思科熱阻蒸發(fā)鍍膜系統(tǒng)-Nano-36

科特萊思科熱阻蒸發(fā)鍍膜系統(tǒng)Nano36擁有LOAD LOCK預(yù)真空進(jìn)樣室(可選)、前開門蒸發(fā)腔體、冷凝泵和干泵、多個(gè)熱阻蒸發(fā)源或OLED低溫蒸發(fā)源。

在高真空下,電子槍燈絲加熱后發(fā)射熱電子,被加速陽極加速,獲得很大的動能轟擊到的蒸發(fā)材料上,把動能轉(zhuǎn)化成熱使蒸發(fā)材料加熱氣化,而實(shí)現(xiàn)蒸發(fā)鍍膜。電子束蒸發(fā)源由發(fā)射電子的熱陰極、電子加速極和作為陽極的鍍膜材料組成。電子束蒸發(fā)源的能量可高度集中,使鍍膜材料局部達(dá)到高溫而蒸發(fā)。通過調(diào)節(jié)電子束的功率,可以方便的控制鍍膜材料的蒸發(fā)速率,特別是有利于高熔點(diǎn)以及高純金屬和化合物材料。可在高真空下蒸發(fā)不同厚度的各種金屬與氧化物薄膜,廣泛應(yīng)用于物理,生物,化學(xué),材料,電子等領(lǐng)域。


科特萊思科熱阻蒸發(fā)鍍膜系統(tǒng)-Nano-36

在高真空下,電子槍燈絲加熱后發(fā)射熱電子,被加速陽極加速,獲得很大的動能轟擊到的蒸發(fā)材料上,把動能轉(zhuǎn)化成熱使蒸發(fā)材料加熱氣化,而實(shí)現(xiàn)蒸發(fā)鍍膜。電子束蒸發(fā)源由發(fā)射電子的熱陰極、電子加速極和作為陽極的鍍膜材料組成。電子束蒸發(fā)源的能量可高度集中,使鍍膜材料局部達(dá)到高溫而蒸發(fā)。通過調(diào)節(jié)電子束的功率,可以方便的控制鍍膜材料的蒸發(fā)速率,特別是有利于高熔點(diǎn)以及高純金屬和化合物材料。可在高真空下蒸發(fā)不同厚度的各種金屬與氧化物薄膜,廣泛應(yīng)用于物理,生物,化學(xué),材料以及電子等領(lǐng)域。



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