低溫恒溫反應浴常應用于對半導體制造裝置發(fā)熱部的冷卻：單晶片洗凈轉載、印刷機、自動夾座安裝裝置、噴涂裝置、離子鍍裝置、蝕刻裝置、單晶片處理裝置、切片機、包裝機、顯影劑的溫度管理、露光裝置、生磁部分的加熱裝置等。并且對激光裝置發(fā)熱部分的冷卻：激光加工、熔接機的發(fā)熱部分、激光標志裝置、發(fā)生裝置、二氧化碳激光加工機等起到很大作用。

 

　　提供-40℃~105℃溫度范圍內(nèi)的高、低恒溫液體，以滿足用高、低溫做反應的恒溫儀器的需要。

 

　　特別適用與化學反應釜、發(fā)酵罐、旋轉蒸發(fā)器、電子顯微鏡、阿貝折先儀、蒸發(fā)皿、生物制藥反應器等實驗設備配套使用。

 

　　*內(nèi)循環(huán)和外循環(huán)泵系統(tǒng)，內(nèi)循環(huán)使儀器溫度均勻恒定，外循環(huán)泵輸出16升/分~18升/分在流量高、低溫液體。8升~40升的工作槽容積內(nèi)還可放入裝有生化試劑或被測樣品的各種容器，直接進行高低溫試驗或測試，實現(xiàn)一機多用

 

　　低溫恒溫循環(huán)器的主要特點

 

　　●風冷式全封閉制冷壓縮機,降溫速度快。

 

　　●微機智能控制,溫度溫度。

 

　　●數(shù)顯分辨率0.1℃或0.01℃，具有溫度測量值偏差修正功能。

 

　　●溫度超溫保護,自動切斷電源并報警。

 

　　●制冷系統(tǒng)過熱、過流自動保護。