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奧影科普|X射線(xiàn)工業(yè)CT射線(xiàn)源解析(二):反射靶vs透射靶

閱讀:460      發(fā)布時(shí)間:2024-3-26
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選擇合適類(lèi)型的X射線(xiàn)源是實(shí)現(xiàn)優(yōu)質(zhì)成像和拓寬應(yīng)用范圍的關(guān)鍵。 在上一期的推文中,我們介紹了射線(xiàn)源「開(kāi)管和閉管」的結(jié)構(gòu)區(qū)別,本期我們繼續(xù)為大家介紹「反射靶和透射靶」兩種射線(xiàn)源結(jié)構(gòu)。

反射式靶

反射式靶的特點(diǎn)在于其靶面與入射電子束形成一定傾斜角度。這種設(shè)計(jì)具有較大的散熱體積,因此可以承受較高電壓的加速電子。反射式靶的優(yōu)勢(shì)在于能夠獲得更高的電子能量,從而產(chǎn)生更強(qiáng)的X射線(xiàn)輻射。這對(duì)于需要高能量成像的應(yīng)用場(chǎng)景非常重要,例如:

· 汽車(chē)工業(yè):檢測(cè)電子組件、電子控制單元、微型機(jī)械裝置、插頭和壓接件、電池盒等。

· 航空航天領(lǐng)域:檢測(cè)機(jī)械組件(如閥或襟翼制動(dòng)器)、環(huán)向電子束焊(EB)焊縫、轉(zhuǎn)子葉片、渦輪葉片、飛機(jī)渦輪、電子組裝、小型鈦和鋁鑄件、復(fù)合材料等。

圖源網(wǎng)絡(luò)

透射式靶

透射式靶是一層薄膜,其靶面與入射電子束垂直。這種設(shè)計(jì)可以獲得更小的焦點(diǎn)尺寸和更大的輻射角度。透射式靶適用于需要高分辨率成像的場(chǎng)景,例如:

· 材料科學(xué)中的微焦點(diǎn)X射線(xiàn)成像:透射式靶用于研究材料的微觀結(jié)構(gòu)和缺陷。

圖源網(wǎng)絡(luò)

無(wú)論是「開(kāi)管和閉管」,還是「反射靶和透射靶」,不同的結(jié)構(gòu)組合,其成像質(zhì)量、應(yīng)用場(chǎng)景等各有不同,我們建議用戶(hù)在選擇設(shè)備時(shí),一定要結(jié)合自身實(shí)際,充分考慮好檢測(cè)需求,再選擇最合適的射線(xiàn)源。只有根據(jù)實(shí)際情況做出明智的選擇,才能充分發(fā)揮X射線(xiàn)成像技術(shù)的潛力,為各領(lǐng)域的檢測(cè)和研究提供精準(zhǔn)、高效的解決方案。


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