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  • 薄膜沉積CVD

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  • 原子層沉積系統(tǒng)

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  • PICOSUN原子層沉積系統(tǒng)-高級版

    PICOSUN原子層沉積系統(tǒng)ALD R-200高級版;系統(tǒng)適用于數十種應用的研發(fā),例如IC組件,MEMS器件,顯示器,LED,激光和3D對象,例如透鏡,光學器件...

    型號: ALD R-200... 所在地:北京市參考價: 面議更新時間:2024/9/25 13:43:50 對比
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  • PICOSUN原子層沉積系統(tǒng)ALD R-200基礎版

    PICOSUN®R-200標準ALD系統(tǒng)適用于數十種應用的研發(fā),例如IC組件,MEMS器件,顯示器,LED,激光和3D對象,例如透鏡,光學器件,珠寶,...

    型號: ALD R-200 所在地:北京市參考價: 面議更新時間:2024/9/25 13:41:31 對比
    PICOSUN原子層沉積ALDPICOSUN-ALD原子層
  • 等離子 中束流離子注入機

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    型號: IMC210 所在地:北京市參考價: 面議更新時間:2024/9/25 12:51:44 對比
    IBS中束流離子注入高溫離子注入機中束離子
  • ICP等離子沉積系統(tǒng)-SI 500D

    SI 500D等離子沉積系統(tǒng)是ICP-PECVD設備,利用ICP高密度等離子源來沉積電介質薄膜。可在極低溫度下( 100ºC)沉積高質量SiO2, S...

    型號: ICP-500D 所在地:北京市參考價: 面議更新時間:2024/9/25 12:16:56 對比
    SENPECVD沉積系統(tǒng)SI 500 PPD化學氣相沉積

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