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更新時(shí)間：2025-07-07 14:31:56瀏覽次數(shù)：4619
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| 產(chǎn)地類(lèi)別 | 進(jìn)口 | 應(yīng)用領(lǐng)域 | 電子/電池,鋼鐵/金屬,航空航天,汽車(chē)及零部件 |
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美國(guó)SVT 脈沖激光沉積設(shè)備/PLD應(yīng)用
● 多元素復(fù)合氧化物
● 高溫超導(dǎo)材料
● 磁性材料、金屬材料
● 低蒸汽壓材料
● MEMS
基本系統(tǒng)
腔室及真空泵
12’’ 快速門(mén)，250l/s 分子泵，全量程規(guī)
沉積源
靶臺(tái)，6X1’’(25mm) 靶，可以水平旋轉(zhuǎn)，可Z方向移動(dòng)
樣品臺(tái)
1’’(25mm)大小，可加熱至800oC（1000oC可選），可水平旋轉(zhuǎn)，可Z方向移動(dòng)
在線工藝監(jiān)控
石英晶振沉積速率監(jiān)控儀
自動(dòng)化
自動(dòng)化裝置：
控制樣品溫度和旋轉(zhuǎn)
靶臺(tái)的位置控制
靶臺(tái)旋轉(zhuǎn)
氣體控制
速率及厚度計(jì)算（利用QCM輸出）
激光束掃描（可選）
激光束屏蔽控制
自動(dòng)泵抽和充氣
差分泵抽結(jié)構(gòu)
RHEED分析（可選）
裝載室壓強(qiáng)監(jiān)控（可選）
美國(guó)SVT 脈沖激光沉積設(shè)備/PLD主要特點(diǎn)
RF射頻等離子源(氧，氮)
升級(jí)高真空
增加進(jìn)樣室
升級(jí)為L(zhǎng)aser-MBE （L-MBE）系統(tǒng)
自動(dòng)軟件控制
提供更潔凈的薄膜生長(zhǎng)環(huán)境,控制解決方案
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