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行業(yè)產(chǎn)品
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當(dāng)前位置:北京容圣科技有限公司>>產(chǎn)品展示
可用于成像和記錄。由加熱底座和用于密封蓋玻片的硅膠 O 形圈組成。金屬底座有利于熱傳遞。溶液和室底座之間沒有接觸,以防止離子泄漏。
與常規(guī) CSC 室相比,它不需要頂環(huán)或頂部夾具來將組件保持在一起。相反,硅膠環(huán)可防止蓋玻片泄漏,從而使其外形低調(diào)。
專為活細(xì)胞成像和延時(shí)顯微鏡而設(shè)計(jì)。該培養(yǎng)箱可與圓形可更換蓋玻片一起使用,以進(jìn)行長(zhǎng)期延時(shí)高分辨率成像。
可用于成像和記錄。由金屬底座和用于密封蓋玻片的硅膠 O 形圈組成。溶液和室底座之間沒有接觸,以防止離子泄漏。
可用于成像和記錄。由金屬底座和用于密封蓋玻片的硅膠 O 形圈組成。溶液與金屬部分不接觸,防止離子泄漏。
可與任何顯微鏡物鏡(或任何圓柱形物體)一起使用。可將物鏡冷卻至-6°C(或加熱至150°C)
這種薄型加熱/冷卻臺(tái)設(shè)計(jì)用于安裝在標(biāo)準(zhǔn)多孔板的 128x86mm 支架內(nèi)??膳c:定制設(shè)備、一次性載玻片和蓋玻片一起使用
可與:定制設(shè)備、一次性載玻片和蓋玻片一起使用??蓪悠防鋮s至-5°C(與BTC-W熱交換裝置結(jié)合)或加熱至150°C
這種液體熱交換旨在通過主動(dòng)降低流經(jīng)散熱器的液體(例如水)的溫度來降低珀?duì)柼?jí)散熱器的溫度。
可用于矩形蓋玻片、標(biāo)準(zhǔn)載玻片和腔室蓋玻片上的樣品成像。拆下 35 毫米腔室的安裝環(huán)后,安裝在標(biāo)準(zhǔn)顯微鏡的通用顯微鏡適配器頂部(也適合載玻片的加熱和冷卻臺(tái))
可用于蓋玻片 和培養(yǎng)皿中的樣品成像。拆下內(nèi)聯(lián)預(yù)熱器管后,安裝在 35mm 室和培養(yǎng)皿的加熱元件頂部(也適合冷卻臺(tái)內(nèi)部)
可與 BTC-SL 載物臺(tái)一起使用,適用于標(biāo)準(zhǔn) 1 英寸(25 毫米)寬的一次性載玻片和腔室蓋玻片。
用于冷卻和加熱顯微鏡載物臺(tái)的帶蓋培養(yǎng)箱,用于培養(yǎng)皿和蓋玻片室,BTC-SI如果放置在BTC-S平臺(tái)頂部,將形成一個(gè)封閉系統(tǒng)來控制內(nèi)部氣體成分、CO2或缺氧??膳c...
可與:標(biāo)準(zhǔn) 1 英寸(25 毫米)寬的一次性載玻片和腔蓋玻片一起使用。內(nèi)置溫度傳感器,運(yùn)行穩(wěn)定。
該加熱/冷卻臺(tái)可安裝在電動(dòng)臺(tái)的 160x110mm 切口內(nèi)。其低輪廓允許定位在正置顯微鏡的掃描頭和物鏡下方。
設(shè)計(jì)為精密壓力源,可在現(xiàn)場(chǎng)使用,無需外部壓力源。產(chǎn)生高達(dá) 15PSI 的壓力,穩(wěn)定性為 0.1mmHg。
可與 50mm 培養(yǎng)皿一起使用,在放置在玻璃底部的樣品周圍形成灌注室。促進(jìn)培養(yǎng)皿內(nèi)的灌注。
適用于光學(xué)間隙為 12mm 的 Willco 皿。促進(jìn)培養(yǎng)皿內(nèi)的灌注。獨(dú)立的流入室和流出室可防止氣泡進(jìn)入工作室并提供順暢的灌注。可與灌注系統(tǒng)一起使用。請(qǐng)參閱錄音...
可重復(fù)使用的插入件將普通培養(yǎng)皿轉(zhuǎn)變?yōu)楣嘧⑹?。即使培養(yǎng)皿充滿培養(yǎng)基或表面不平坦,生物相容性墊圈也會(huì)與培養(yǎng)皿的底部表面形成氣密且防漏的接觸.
這些套件允許您構(gòu)建用于任何目的的可調(diào)節(jié)支架。右側(cè)的示例是一個(gè)微流體芯片,帶有四個(gè) MTH 可調(diào)節(jié)磁性支架,用于固定樣品中液體流入和流出的管道。
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