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什么是光刻技術(shù)
閱讀：1874 發(fā)布時間：2017-1-16
光刻技術(shù)主要應(yīng)用在微電子中。它一般是對半導(dǎo)體進(jìn)行加工，需要一個有部分透光部分不透光的掩模板，通過曝光、顯影、刻蝕等技術(shù)獲得和掩模板一樣的圖形。先在處理過后的半導(dǎo)體上涂上光刻膠，然后蓋上掩模板進(jìn)行曝光；其中透光部分光刻膠的化學(xué)成分在曝光過程中發(fā)生了變化；之后進(jìn)行顯影，將發(fā)生化學(xué)變化的光刻膠腐蝕掉，裸露出半導(dǎo)體；之后對裸露出的半導(dǎo)體進(jìn)行刻蝕，zui后把光刻膠去掉就得到了想要的圖形。光刻技術(shù)在微電子中占有很大的比重，比如微電子技術(shù)的進(jìn)步是通過線寬來評價的，而線寬的獲得跟光刻技術(shù)有很大的關(guān)系。
光刻技術(shù)就是在需要刻蝕的表面涂抹光刻膠，干燥后把圖形底片覆蓋其上，有光源照射，受光部分即可用藥水洗掉膠膜，沒有膠膜的部分即可用濃酸濃堿腐蝕表面。腐蝕好以后再洗掉其余的光刻膠。現(xiàn)在為了得到細(xì)微的光刻線條使用紫外線甚至X射線作為光源。