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氧化還原電位（Eh）作為介質(zhì)（包括土壤、水、培養(yǎng)基等）環(huán)境條件的一個綜合性指標(biāo)，已沿用很久，它表征介質(zhì)氧化性或還原性的相對程度。長期以來氧化還原電位是采用鉑電直接測定法。即將鉑電和參比電直接插入介質(zhì)中來測定。
一、指標(biāo)：
測量范圍： ±1999mv 0.0-100℃
解 析 度： 1mV 0.1℃
精 度 :1mV 0.1mV（200mV以內(nèi)）
校正方式：一點或二點手動校正（pH4.0、9.18）
溫度補償：0-50℃自動溫度補償
輸入阻抗：1012Ω
適用環(huán)境：0-50℃ 85%RH
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