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E+H多參數(shù)界面測量儀FMP55亮相發(fā)布會(huì)
點(diǎn)擊次數(shù)：466 發(fā)布時(shí)間：2014-9-5
據(jù)E+H公司的發(fā)布會(huì)得知，E+H近期推出一款新產(chǎn)品Endress+Hauser Levelflex FMP55 多參數(shù)界面測量儀，將在同步進(jìn)行銷售。E+H多參數(shù)界面測量儀FMP55是業(yè)界集導(dǎo)波雷達(dá)和電容測量原理于一體，專門用于界面高精度測量的物位儀表。該產(chǎn)品革命性的測量方案一舉解決了現(xiàn)有測量手段應(yīng)對(duì)復(fù)雜界面檢測固有的限制，真正實(shí)現(xiàn)了一臺(tái)儀表“全工況”界面測量：精度高、穩(wěn)定性好、重復(fù)性優(yōu)異的目標(biāo)。除了設(shè)計(jì)理念的革新，該產(chǎn)品在研發(fā)之初即充分考慮到現(xiàn)場應(yīng)用、實(shí)際維護(hù)與實(shí)時(shí)測量的復(fù)雜性與多變性，在結(jié)構(gòu)設(shè)計(jì)、軟件運(yùn)算和數(shù)據(jù)維護(hù)等方面進(jìn)行了全面的升級(jí)和提高。
在結(jié)構(gòu)設(shè)計(jì)上，E+H多參數(shù)界面測量儀FMP55采用了同軸探頭搭配雙腔殼體。同軸型結(jié)構(gòu)既保證構(gòu)成穩(wěn)定的電容測量，也實(shí)現(xiàn)了導(dǎo)波雷達(dá)測量低介電常數(shù)介質(zhì)液面的要求，確保液面和界面測量更穩(wěn)定、更。本安的電子腔室與隔爆的電源腔室相互隔離，確保在防爆場合亦可以打開電子腔室進(jìn)行儀表操作?？尚D(zhuǎn)360度的表頭以及具備45度仰角的顯示窗口，極大的便利了現(xiàn)場接線、調(diào)試等操作。不僅如此，E+H多參數(shù)界面測量儀FMP55還采用了優(yōu)良的技術(shù)，實(shí)現(xiàn)更換電子插件后不再需要重新調(diào)試和設(shè)置參數(shù)，一分鐘即可做到儀表重新恢復(fù)到正常工作狀態(tài)。解決了用戶不會(huì)調(diào)試的后顧之憂，大大方便了用戶。由于FMP55實(shí)現(xiàn)了高度的數(shù)字化和智能化，內(nèi)部預(yù)置了豐富的預(yù)診斷功能，為儀表安全可靠運(yùn)行提供了保障。
在液位和界面信號(hào)識(shí)別方面上，E+H多參數(shù)界面測量儀FMP55運(yùn)用了靜態(tài)和動(dòng)態(tài)算法相結(jié)合的算法，能動(dòng)態(tài)跟蹤并記錄界面回波的歷史運(yùn)動(dòng)軌跡，定位出界面的位置。更優(yōu)良的設(shè)計(jì)是：當(dāng)被測界面由于各種原因變得不清晰時(shí)，如出現(xiàn)乳化層時(shí)，為了應(yīng)對(duì)導(dǎo)波雷達(dá)在這種情況下會(huì)發(fā)生失波的可能，儀表內(nèi)部的智能界面信號(hào)識(shí)別系統(tǒng)會(huì)不斷評(píng)估當(dāng)前界面回波的質(zhì)量，利用電容測量值進(jìn)行自動(dòng)補(bǔ)償，確保持續(xù)穩(wěn)定測量，從而實(shí)現(xiàn)了“全工況”的界面測量。
總之，E+H多參數(shù)界面測量儀FMP55克服了電容和導(dǎo)波雷達(dá)單獨(dú)測量界面的局限性，充分發(fā)揮了二種測量原理的優(yōu)勢，結(jié)合優(yōu)良算法實(shí)現(xiàn)了復(fù)雜工況下的界面測量，開創(chuàng)了界面測量的先河，為自動(dòng)化領(lǐng)域的界面測量增添了一種全新的、更為可靠、穩(wěn)定的解決方案。