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鄭州歐諾儀器有限公司

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HW.SY21-KP4二列四孔水浴鍋技術(shù)參數(shù)

閱讀:938      發(fā)布時(shí)間:2022-11-30
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HW.SY21-KP4二列四孔水浴鍋技術(shù)參數(shù)范圍

本產(chǎn)品、科研單位、實(shí)驗(yàn)室蒸餾、濃縮干燥及恒溫加熱化學(xué)品、生物制品、檢查血清和生化實(shí)驗(yàn),恒溫培養(yǎng)以及對(duì)注射器和小型手術(shù)器械進(jìn)行煮沸消之用。

HW.SY21-KP4二列四孔水浴鍋技術(shù)參數(shù)技術(shù)參數(shù)

型號(hào):HW.SY21-KP4(二列四孔)

規(guī)格:智能

功率:1000W

電源:220V±2V  50Hz

控溫范圍:室溫+5℃~99.9℃

水溫波動(dòng)性、水溫均勻性:≤±0.5℃

水槽尺寸(mm):(325×300×90)

特點(diǎn):

    產(chǎn)品的內(nèi)膽、外殼均采用優(yōu)質(zhì)不銹鋼拉絲板材,溫控系統(tǒng)采用微機(jī)PID智能控制,感熱性能強(qiáng)、靈敏度高、水溫波動(dòng)性、水溫均勻性在±0.5℃范圍內(nèi)。


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