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    微區(qū)掃描電化學(xué)工作站是一個(gè)建立在電化學(xué)掃描探針的設(shè)計(jì)基礎(chǔ)上的，進(jìn)行高測(cè)量分辨率及空間分辨率的非接觸式微區(qū)形貌及電化學(xué)微區(qū)測(cè)試系統(tǒng)。 普林斯頓VersaScan微區(qū)掃描電化學(xué)工作站是提供給電化學(xué)及材料測(cè)試以*空間分辨率的一個(gè)測(cè)試平臺(tái)。每個(gè)VersaSCAN都具有高分辨率，長(zhǎng)工作距離的閉環(huán)定位系統(tǒng)并安裝于抗震光學(xué)平臺(tái)上。

    普林斯頓VersaScan微區(qū)掃描電化學(xué)工作站是提供給電化學(xué)及材料測(cè)試以*空間分辨率的一個(gè)測(cè)試平臺(tái)。每個(gè)VersaSCAN都具有高分辨率，長(zhǎng)工作距離的閉環(huán)定位系統(tǒng)并安裝于抗震光學(xué)平臺(tái)上。不同的輔助選件都安裝于定位系統(tǒng)上，輔助選件包括，如電位計(jì)，壓電振動(dòng)單元，或者激光傳感器，為不同掃描探針試驗(yàn)，定位系統(tǒng)提供不同的功能。VersaSTAT恒電位儀和Signal Recovery 7230鎖相放大器和定位系統(tǒng)整合在一起，由以太網(wǎng)來(lái)控制，保證小信號(hào)的測(cè)量。

    普林斯頓VersaScan微區(qū)掃描電化學(xué)工作站是一個(gè)模塊化配置的系統(tǒng)，可以實(shí)現(xiàn)如下現(xiàn)今所有微區(qū)掃描探針電化學(xué)技術(shù)以及激光非接觸式微區(qū)形貌測(cè)試：

    1. Scanning Electrochemical Microscopy (SECM) 掃描電化學(xué)顯微鏡

    2. Scanning Vibrating Electrode Technique (SVET) 掃描振動(dòng)電極測(cè)試

    3. Scanning Kelvin Probe (SKP) 掃描開(kāi)爾文探針測(cè)試

    4. Localized Electrochemical Impedance Spectroscopy (LEIS) 微區(qū)電化學(xué)阻抗測(cè)試

    5. Scanning Droplet Cell (SDC) 掃描電解液微滴測(cè)試

    6. Non-Contact Surface Profiling (OSP) 非觸式光學(xué)微區(qū)形貌測(cè)試

    以上普林斯頓維區(qū)電化學(xué)工作站每項(xiàng)技術(shù)使用不同的測(cè)量探針，且安裝位置與樣品非常接近，但是不接觸到樣品。隨著探針測(cè)試的進(jìn)行，改變探針的空間位置。然后將所記錄的數(shù)據(jù)對(duì)探針位置作圖，針對(duì)不同技術(shù)，該圖可以呈現(xiàn)微區(qū)掃描電化學(xué)電流，阻抗，相對(duì)功函或者是表面形貌圖。

    微區(qū)掃描電化學(xué)是一個(gè)模塊化的系統(tǒng)，微區(qū)掃描電化學(xué)可實(shí)現(xiàn)當(dāng)今所有微區(qū)掃描探針電化學(xué)技術(shù)以及激光非接觸式微區(qū)形貌測(cè)試：

    - 掃描電化學(xué)顯微鏡(SECM)

    - 掃描振動(dòng)電極測(cè)試(SVET)

    - 掃描開(kāi)爾文(Kelvin)探針測(cè)試(SKP)

    - 微區(qū)電化學(xué)阻抗測(cè)試(LEIS)

    - 掃描電解液微滴測(cè)試(SDS)

    - 非觸式微區(qū)形貌測(cè)試(OSP)

    微區(qū)掃描電化學(xué)利用納米級(jí)分辨率的快速，閉環(huán)x,y,z定位系統(tǒng)，并連同一個(gè)便捷的數(shù)據(jù)采集系統(tǒng)使用戶(hù)依據(jù)自己的實(shí)驗(yàn)選擇配置。微區(qū)掃描電化學(xué)系統(tǒng)設(shè)計(jì)靈活且人體工程學(xué)設(shè)計(jì)方便確保池體，樣品和探針的進(jìn)入。

    近年來(lái)，微區(qū)掃描電化學(xué)技術(shù)發(fā)展迅猛，在腐蝕和電沉積科學(xué)中的表面反映過(guò)程基礎(chǔ)研究，酶穩(wěn)定性研究，生物大分子的電化學(xué)反應(yīng)特性，化學(xué)傳感器，點(diǎn)蝕孔蝕，涂層完整性和均勻性，涂層下或逾金屬界面間的局部腐蝕，緩蝕劑性能等相關(guān)領(lǐng)域得到廣泛應(yīng)用，微區(qū)掃描電化學(xué)倍受科技工作者的關(guān)注。