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[供應(yīng)]“沃特浦”電子光學(xué)行業(yè)生產(chǎn)用水
產(chǎn)品簡介
應(yīng)用特點：
晶體半導(dǎo)體、集成電路芯片、計算機硬盤、顯示器、液晶顯示制造過程中的純水、超純水；工藝中清洗用純水?？刹捎萌詣宇A(yù)處理單元，PLC*電控系統(tǒng)、低壓停水保護(hù)。該設(shè)備脫鹽率高、膜使用壽命長、設(shè)備運行可靠、低能耗、低噪音。系統(tǒng)設(shè)置手動、自動沖洗，無水停機，高低壓保護(hù)及液位控制等功能。
晶體半導(dǎo)體、集成電路芯片、計算機硬盤、顯示器、液晶顯示制造過程中的純水、超純水；工藝中清洗用純水?？刹捎萌詣宇A(yù)處理單元，PLC*電控系統(tǒng)、低壓停水保護(hù)。該設(shè)備脫鹽率高、膜使用壽命長、設(shè)備運行可靠、低能耗、低噪音。系統(tǒng)設(shè)置手動、自動沖洗，無水停機，高低壓保護(hù)及液位控制等功能。
詳細(xì)介紹
應(yīng)用特點：
晶體半導(dǎo)體、集成電路芯片、計算機硬盤、顯示器、液晶顯示制造過程中的純水、超純水；工藝中清洗用純水。可采用全自動預(yù)處理單元，PLC*電控系統(tǒng)、低壓停水保護(hù)。該設(shè)備脫鹽率高、膜使用壽命長、設(shè)備運行可靠、低能耗、低噪音。系統(tǒng)設(shè)置手動、自動沖洗，無水停機，高低壓保護(hù)及液位控制等功能。
產(chǎn)水水質(zhì)：
TOC＜10ppb PARTICLE達(dá)到0.5μm≤200PCS/L
二氧化硅SiO2＜5ppb 電阻率≥18MΩ.cm（25℃）
工藝流程：
預(yù)處理→雙級反滲透主機→EDI→拋光混床
四川沃特爾水處理設(shè)備有限公司主營產(chǎn)品：四川實驗室超純水機價格_杭州/成都實驗室超純水機維修廠家
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