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真空室加工—表面清潔
點(diǎn)擊次數(shù)：492 發(fā)布時(shí)間：2023-10-24
清潔表面是真空技術(shù)中的先決條件。必須去除表面上的所有雜質(zhì)，以使其在真空條件下不解吸、不產(chǎn)生氣體負(fù)荷或沉積在部件上。
最初的預(yù)處理是必需的，例如，用高壓清洗器，以去除粗污垢。隨后，將在多腔室超聲波中清洗部件。shou次清潔是在超聲波條件下使用特殊的清潔劑進(jìn)行，對(duì)表面進(jìn)行清潔和脫脂。污物沾有表面上的表面活性劑，并粘著在清洗液中。清洗液的pH值必須調(diào)整到適合于腔室材料的范圍。在其他清洗液中，清潔劑通過預(yù)沖洗、然后用熱去離子水che底沖洗才能wan全去除。在這之后，必須在高溫、無塵、無烴空氣中快速完成干燥。大型腔室使用蒸汽或高壓清洗器與特殊的清洗劑進(jìn)行清洗。然后，必須使用熱的去離子水再次清洗數(shù)次，最后在高溫空氣中進(jìn)行快速干燥。
清潔后，真空側(cè)表面必須只能佩戴清潔、不起毛的手套觸摸。所用包裝為PE塑料薄膜，且密封面和刀刃輪廓用PE帽保護(hù)。
已清潔部件表面仍然有出氣源。在UHV下，明確吸附的水分子和貯存在空氣中的烴痕是殘余氣體的最大來源。為有效地去除表面的這些物質(zhì)，對(duì)UHV腔室進(jìn)行加熱。在壓力小于1·10-6hPa的連續(xù)排空下，部件通常加熱到150°C至300°C約48小時(shí)。
通過物理吸附或化學(xué)吸附粘著在表面的外來原子通過這些過程獲得熱能量，它們憑借這些熱量可溶解粘著物并將其從表面釋放。從表面釋放的分子必須通過真空泵從系統(tǒng)中去除。在冷卻后，獲得的最終壓力已經(jīng)下降了幾個(gè)量級(jí)。如果腔室被排空，表面會(huì)再次附著分子。使用干燥氮?dú)庾鳛橐绯鰵怏w并簡短暴露于大氣中并不能wan全防止表面上形成水組織，只能減少它。為在容許的抽空時(shí)間內(nèi)達(dá)到最終壓力，小于1·10-8hPa，再次烘烤是不可避免的。