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激光沉積鍍膜設(shè)備技術(shù)指標(biāo)
點擊次數(shù):1033 發(fā)布時間:2020-11-26
激光沉積鍍膜設(shè)備
脈沖激光沉積(Pulsed Laser Deposition,PLD),也被稱為脈沖激光燒蝕(pulsed laser ablation,PLA),是一種利用激光對物體進行轟擊,然后將轟擊出來的物質(zhì)沉淀在不同的襯底上,得到沉淀或者薄膜的一種手段。
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脈沖激光沉積簡介:
隨著現(xiàn)代科學(xué)和技術(shù)的發(fā)展,薄膜科學(xué)已成為近年來迅速發(fā)展的學(xué)科領(lǐng)域之一,是凝聚態(tài)物理學(xué)和材料科學(xué)的一個重要研究領(lǐng)域。功能薄膜是薄膜研究的主要方面,它不僅具有豐富的物理內(nèi)涵,而且在微電子、光電子、超導(dǎo)材料等領(lǐng)域具有十分廣泛的應(yīng)用。
長期以來,人們發(fā)明了多種制膜技術(shù)和方法:真空蒸發(fā)沉積、離子束濺射、磁控濺射沉積、分子束外延、金屬有機化學(xué)氣相沉積、溶膠- 凝膠法等。上述方法各有特點,并在一些領(lǐng)域得到應(yīng)用。但由于其各有局限性,仍然不能滿足薄膜研究的發(fā)展及多種薄膜制備的需要。隨著激光技術(shù)和設(shè)備的發(fā)展,特別是高功率脈沖激光技術(shù)的發(fā)展,脈沖激光沉積(PLD)技術(shù)的特點逐漸被人們認(rèn)識和接受 。