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棱鏡耦合測(cè)試儀在技術(shù)上的特點(diǎn)

閱讀：2288 發(fā)布時(shí)間：2022-1-14

　　棱鏡耦合測(cè)試儀采用棱鏡耦合方法測(cè)試樣品折射率，可測(cè)試波長(zhǎng)633nm、935nm、1549nm處的折射率值，通過(guò)軟件做曲線(xiàn)耦合科求出任何波段的模擬值。測(cè)量原理：待測(cè)樣品通過(guò)一個(gè)空氣作用的耦合探頭與棱鏡基座接觸，在薄膜與棱鏡之間產(chǎn)生一個(gè)空氣狹縫。一束激光光束照射到棱鏡基座上，通常會(huì)在基座上全反射進(jìn)入光電探測(cè)器。在某一些入射角，稱(chēng)為模式角，光子向下穿過(guò)空氣狹縫進(jìn)入薄膜，進(jìn)入一種被引導(dǎo)的光傳播模式，使到達(dá)探測(cè)器的光強(qiáng)度大幅降低。

　　棱鏡耦合測(cè)試儀的技術(shù)特點(diǎn)：

　　1、對(duì)折射率隨波長(zhǎng)變化不敏感：

　　每種薄膜的折射率都隨波長(zhǎng)變化。在以分光光度學(xué)為基礎(chǔ)的技術(shù)中，如果沒(méi)有精確了解薄膜折射率在全波長(zhǎng)范圍內(nèi)的變化，就會(huì)導(dǎo)致實(shí)質(zhì)性的錯(cuò)誤。而且，一些可變折射率薄膜，例如等離子氮化硅的折射率-波長(zhǎng)曲線(xiàn)就高度依賴(lài)于薄膜沉淀?xiàng)l件。對(duì)于這些薄膜，Model2010的單色測(cè)量具有了一種明顯的優(yōu)勢(shì)。

　　2、不必預(yù)先知曉薄膜厚度:

　　由于橢偏儀數(shù)據(jù)隨薄膜厚度周期性變化，橢圓偏光法要求預(yù)先知曉薄膜厚度，準(zhǔn)確度為±750to±1250，這取決于薄膜折射率。Model2010可以進(jìn)行直接的厚度測(cè)量，故不需要預(yù)先知曉薄膜厚度。

　　在某些周期性的厚度范圍內(nèi)不可能進(jìn)行以橢圓偏光法為基礎(chǔ)的折射率測(cè)量。使用Model2010，一旦薄膜厚度超過(guò)某個(gè)最小的閾值（典型值為3000-4800,取決于薄膜/基底材料類(lèi)型）就可得到*準(zhǔn)確的折射率測(cè)量。

　　3、內(nèi)部一致性檢測(cè):

　　如果薄膜厚度超過(guò)5000-7500?，將對(duì)薄膜厚度和折射率進(jìn)行多重獨(dú)立評(píng)估，并將這些多重評(píng)估的標(biāo)準(zhǔn)偏差顯示出來(lái)。只要這些測(cè)量標(biāo)準(zhǔn)偏差很低（典型值為：厚度0.3%，折射率.01%），顯著誤差幾乎不會(huì)出現(xiàn)。目前市面上還沒(méi)有其他的技術(shù)可以就每次檢測(cè)的正確性提供類(lèi)似的“信心檢測(cè)”硅基上氮氧化物及硅基上氧化物的氮化物表層的測(cè)量。

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