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氫氧化鉀濃度對(duì)洗脫時(shí)間的影響 (SI-36 4D)
此色譜柱請(qǐng)配合使用抑制器法離子色譜系統(tǒng)。
下圖是使用陰離子分析用色譜柱IC SI-36 4D分析各陰離子，流動(dòng)相氫氧化鉀濃度和洗脫時(shí)間的關(guān)系?；旧?，氫氧化鉀濃度越高，陰離子的洗脫越快。洗脫程度根據(jù)陰離子而不同，特別是磷酸離子，硫酸根離子，亞硫酸根離子和碳酸根離子的保留時(shí)間變化顯著。
Sample : 25 μL
Inorganic anions 1 μg/mL each (in H2O)
Organic acids 10 μg/mL each (in H2O)
Column : Shodex IC SI-36 4D (4.0 mm I.D. x 150 mm)
Eluent : 20, 25, 30 mM KOH aq.
(Eluent source : DionexTM EGC 500 KOH)
Flow rate : 0.7 mL/min
Detector : Suppressed conductivity
Column temp. : 30 ℃