首頁(yè)>>中美合資合肥科晶材料技術(shù)有限公司>>產(chǎn)品展示>>薄膜制備全套設(shè)備>>射頻等離子磁控濺射鍍膜儀
5靶頭等離子射頻磁控濺射儀 參考價(jià)：面議
VTC-5RF是一款5靶頭的等離子射頻磁控濺射儀，針對(duì)于高通量MGI（材料基因組計(jì)劃）薄膜的研究。特別適合用于探索固態(tài)電解質(zhì)材料，通過(guò)5種元素，按16種不同配比...
射頻等離子磁控濺射鍍膜儀 參考價(jià)：面議
射頻等離子磁控濺射鍍膜儀是一款小型的射頻（RF）等離子體磁控濺射鍍膜儀系統(tǒng)，系統(tǒng)中包含了所有所需的配件，如300W（13.5MHz）的RF電源、2“的磁控濺射頭...(空格分隔,最多3個(gè),單個(gè)標(biāo)簽最多10個(gè)字符)
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