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說說高真空蒸發(fā)鍍膜儀的適用范圍

閱讀:2034      發(fā)布時間:2021-7-15
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  高真空蒸發(fā)鍍膜儀是一種高真空蒸鍍機(jī),特別適用于對氧敏感的金屬薄膜(如Ti、Al、Au等)的蒸鍍,也適用于各種氧化物材料的蒸鍍。本機(jī)配備四只蒸鍋,每只蒸鍋均配有擋板,如果改變部分配置,還可以實(shí)現(xiàn)有機(jī)材料的蒸鍍,可以滿足發(fā)光器件和有機(jī)太陽能電池的研究需求,是一種涂裝效果理想的實(shí)驗(yàn)設(shè)備。
  原理:基于電阻蒸發(fā)原理,利用大電流對鉬舟或鎢藍(lán)或固定支架上的鍍膜材料進(jìn)行加熱,使其在高真空下蒸發(fā)并沉積在鍍膜樣品上,以獲得最佳鍍膜效果。采用大抽速、高壓縮比、自然風(fēng)冷卻復(fù)合分子泵,保證電鍍時蒸發(fā)源和樣品排出的氣體能被快速抽出;正常情況下,電鍍室?guī)缀鯖]有油汽回流,非常干凈。
  高真空蒸發(fā)鍍膜儀是將待鍍膜的基材或工件置于真空室中,通過加熱使鍍層材料蒸發(fā)汽化沉積在基材或工件表面,形成薄膜或涂層的工藝。通過加熱蒸發(fā)一種物質(zhì),使其沉積在固體表面,稱為熱蒸發(fā)鍍膜。熱蒸發(fā)鍍膜技術(shù)是最古老的鍍膜技術(shù)之一。熱蒸發(fā)鍍膜機(jī)主要用于碳蒸發(fā),采用超純碳纖維繩為嚴(yán)格的高分辨率掃描電鏡、透射電鏡、EBSD和探針分析提供高質(zhì)量的涂層處理。由于碳原子可以直接沉積在樣品表面而無需橫向移動,因此碳可以形成小于1nm的顆粒。
  高真空蒸發(fā)鍍膜儀適用范圍:電子顯微鏡樣品制備和清潔燈條,以及科研、教學(xué)和企業(yè)實(shí)驗(yàn)活動、工藝測試。采用大抽速、高壓縮比、自然風(fēng)冷卻復(fù)合分子泵,保證電鍍過程中蒸發(fā)源和樣品排出的氣體能被快速抽出;正常情況下,電鍍室?guī)缀鯖]有油汽回流,非常干凈。

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