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　　高真空蒸發(fā)鍍膜儀是全自動程序控制，彩色觸摸屏界面，操作簡單，它可以鍍金（AU），鉑（PT）和其他非氧化的貴金屬，也可以鍍銥（IR），鉻（CR），鋁（AL）和其他易氧化膜材料的細(xì)顆粒。它特別適用于場發(fā)射電子顯微鏡，透射電子顯微鏡和非晶碳熔覆/TEM網(wǎng)格支撐膜的樣品制備，還可以為薄膜應(yīng)用和其他材料領(lǐng)域提供理想的涂層平臺。

　　高真空蒸發(fā)鍍膜儀是一種多功能系統(tǒng)，具有靈活性和模塊化擴(kuò)展性，可適應(yīng)不同的樣品制備，它可用于從蒸籠和坩堝以及可選的濺射附件進(jìn)行碳蒸發(fā)和金屬蒸發(fā)。可以應(yīng)用一系列行之有效的技術(shù)，包括碳鍍層和TEM覆層，碳/金屬蒸發(fā)，低角度和使用雙源蒸發(fā)的順序涂層，可選的濺射鍍膜附件可應(yīng)用于多種目標(biāo)。它的設(shè)計讓其操作更容易實(shí)現(xiàn)。

　　1、通過使用微處理器控制器增強(qiáng)了系統(tǒng)的靈活性，用戶可以輕松添加各種選項(xiàng)。但是，這些“默認(rèn)”操作已得到優(yōu)化，因此自動和手動操作都可以實(shí)現(xiàn)操作。

　　2、*的抽屜式樣品裝載系統(tǒng)，方便用戶放入各種樣品，鉸鏈頂蓋結(jié)構(gòu)易于觸及系統(tǒng)的其他區(qū)域。

　　3、渦輪分子泵安裝在系統(tǒng)外部，高真空蒸發(fā)鍍膜儀可以輕松安裝和更換。它的前真空是旋轉(zhuǎn)真空泵。整個泵送過程是全自動控制的，達(dá)到高真空后會蒸發(fā)。該儀器是臺式的，使用中的疏忽很容易控制并且容易損壞。