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不少客戶在選購(gòu)顆粒萃取設(shè)備時(shí)經(jīng)常會(huì)問到：你們?cè)O(shè)備的空白值能達(dá)到多少？這個(gè)問題有時(shí)候比較難回答，今天來(lái)談?wù)効瞻字档膯栴}。

1. VDA19對(duì)空白值的定義：在沒有零部件參與的情況下進(jìn)行空運(yùn)轉(zhuǎn)清洗，萃取過(guò)程規(guī)范和分析方法需要與即將進(jìn)行的測(cè)試*一致。

2. 允許的取決于零部件的清潔度要求。

3. 重量分析法：要求≤污染物重量的10%

如：該部件的污染物限值為20mg，那么要求≤2mg。

4．如果有附帶zui大顆粒尺寸要求，≤zui大顆粒尺寸/2

如：zui大顆粒限值為300um， 那么要求≤150um

5．顯微分析法：≤10% 允許的顆粒數(shù)量

6．在非實(shí)驗(yàn)室環(huán)境下，很難控制在1mg水平，不建議進(jìn)行清潔度要求低于10mg的實(shí)驗(yàn)。

   由此可見，的控制應(yīng)以不影響下一次實(shí)驗(yàn)為目的，受多種因素影響，而不是*取決于設(shè)備自身。正確的測(cè)試流程如下：

一次完整的清洗流程

進(jìn)口濾膜

由于手動(dòng)顆粒萃取設(shè)備更容易受到環(huán)境 （空氣，檢測(cè)人員，工作場(chǎng)所等），清洗劑潔凈度等因素的影響，因此更有必要定期進(jìn)行的測(cè)試，以保證實(shí)驗(yàn)數(shù)據(jù)的可靠性。

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