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　　光譜學(xué)是一種測量紫外、可見、近紅外和紅外波段光強的技術(shù)。光譜測量廣泛應(yīng)用于許多領(lǐng)域，如顏色測量、化學(xué)成分濃度測量或輻射分析、膜厚測量、氣體成分分析等領(lǐng)域。光纖光譜儀的基本配置包括光柵、狹縫和檢測器。光譜儀的性能取決于這些組件的組合和校準(zhǔn)。校準(zhǔn)后的光纖光譜儀，原則上這些配件不能有任何變化。低雜散光光譜儀是生命科學(xué)、醫(yī)療診斷、半導(dǎo)體與光伏產(chǎn)業(yè)、食品與農(nóng)業(yè)、地理與礦物學(xué)、制藥業(yè)、環(huán)境科學(xué)、司法鑒定等領(lǐng)域的理想檢測工具。

　　低雜散光光譜儀采用非交叉光路設(shè)計，大大提高了紫外響應(yīng)，減少了雜散光的影響，是一種高靈敏度的面陣探測器，是理想的高性能光譜測量產(chǎn)品。由于更寬的線性工作范圍，它特別適用于透射和吸光度檢測。超低雜散光和高靈敏度的結(jié)合也使顏色測量更快。

　　光譜儀包含光學(xué)平臺，大大減少雜散光，提高機械和溫度穩(wěn)定性。這種新型光學(xué)平臺內(nèi)置雙模消除器和多級復(fù)合拋物面鏡，雜散光降低至0.04%，是標(biāo)準(zhǔn)光譜儀的2.5倍。除了顯著改善雜散光外，這種新型光學(xué)平臺還將光譜儀的機械強度提高了10倍以上，使其對機械變形和溫度變化的敏感度降低。

　　低雜散光光譜儀可大大減少雜散光，提高機械和溫度穩(wěn)定性。這種新型光學(xué)平臺具有兩個光闌和多個光阱，可以將雜散光抑制到0.04%，是普通光譜儀的2.5倍。新的光學(xué)平臺在改善雜散光的同時，機械剛性也大大提高，微彎和溫漂對光譜儀的影響降低了10倍。特別適用于需要測量高吸光度的應(yīng)用，如高化學(xué)濃度、高光密度光學(xué)元件和長光程測量。這種新型光學(xué)平臺和光譜儀適用于OEM應(yīng)用和單臺儀器應(yīng)用。