這次大會(huì)是由芬蘭PICOSUN公司和復(fù)旦大學(xué)主辦，南京大學(xué)、中國(guó)科學(xué)院上海技術(shù)物理研究所、上海納米技術(shù)及應(yīng)用國(guó)家工程研究中心和我們北京正通遠(yuǎn)恒科技有限公司聯(lián)合承辦，旨在方便中國(guó)科研工作者交流分享ALD技術(shù)的更新研究進(jìn)展和相關(guān)領(lǐng)域的研究成果。

報(bào)告人介紹：
        張衛(wèi)教授：1995年6月畢業(yè)于西安交通大學(xué)，獲博士學(xué)位。1995-1997年在復(fù)旦大學(xué)做博士后，1997年起任教于復(fù)旦大學(xué)，1999年晉升為教授。現(xiàn)任復(fù)旦大學(xué)微電子學(xué)系系主任、復(fù)旦-Novellus互連研究中心主任，“極大規(guī)模集成電路制造裝備及成套工藝”國(guó)家重大專項(xiàng)（02專項(xiàng)）總體組專家、上海市科學(xué)技術(shù)預(yù)見專家。在Applied Physics Letters、Journal of Applied Physics等期刊和會(huì)議上發(fā)表論文180多篇，申請(qǐng)15項(xiàng)，合作出版學(xué)術(shù)著作1部。曾獲得教育部二等獎(jiǎng)。

　　研究方向：集成電路工藝、微細(xì)加工技術(shù)和半導(dǎo)體器件。具體包括（1）先進(jìn)銅互連工藝研究。如超低k互連介質(zhì)，新型超薄擴(kuò)散阻擋層，以及納米尺度Via填充工藝等；（2）原子層淀積（ALD）工藝研究。如ALD高k柵介質(zhì)，基于ALD工藝的高密度MIM電容等；（3）新型存儲(chǔ)器。如納米晶存儲(chǔ)器、RRAM等；（4）基于納米線和納米管的晶體管，以及隧穿場(chǎng)效應(yīng)晶體管（TFET）等新結(jié)構(gòu)器件研究。
李愛東教授： 1988年在浙江大學(xué)化工系獲學(xué)士學(xué)位。1988－1994年在哈爾濱工業(yè)大學(xué)應(yīng)用化學(xué)系工作，1993年獲得化學(xué)系碩士學(xué)位。1996年獲南京大學(xué)物理系理學(xué)博士學(xué)位。1996年至今，在南京大學(xué)材料系工作，從事科研和教學(xué)工作。2000年香港理工大學(xué)的訪問學(xué)者，2005年加州大學(xué)伯克利分校訪問學(xué)者。入選2004年教育部新世紀(jì)人才計(jì)劃。主持和參與了國(guó)家自然科學(xué)基金、“973”、教育部、江蘇省和與國(guó)外公司的合作項(xiàng)目等多項(xiàng)課題。已在學(xué)術(shù)期刊上發(fā)表SCI論文90余篇。獲得中國(guó)發(fā)明10項(xiàng)。研究方向：化學(xué)法制備科學(xué)（溶膠凝膠法、金屬有機(jī)氣相沉積法、原子層化學(xué)沉積法）：薄膜生長(zhǎng)工藝、動(dòng)力學(xué)、機(jī)理和微結(jié)構(gòu)；自聚集制備科學(xué)；集成鐵電學(xué)基礎(chǔ)：鐵電薄膜和柵介電薄膜與硅的集成；有機(jī)極化功能聚合物材料的制備與極化特性。
關(guān)于Picosun Oy
    　Picosun是一家致力于開發(fā)和生產(chǎn)原子層沉積系統(tǒng)（ALD）的公司。ALD主要應(yīng)用于微米和納米技術(shù)方面。在芬蘭，Picosun公司連續(xù)擁有ALD反應(yīng)器生產(chǎn)的專有技術(shù)已經(jīng)長(zhǎng)達(dá)三十多年。Picosun公司坐落于芬蘭的Espoo，其美國(guó)總部在底特律。使用SUNALE型ALD系統(tǒng)的用戶遍布，包括*高校與科研機(jī)構(gòu)。

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