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CIPTech 微觀四點(diǎn)探針

具體成交價(jià)以合同協(xié)議為準(zhǔn)
  • 公司名稱 源順科技儀器有限公司
  • 品牌
  • 型號 CIPTech
  • 產(chǎn)地 丹麥
  • 廠商性質(zhì) 經(jīng)銷商
  • 更新時(shí)間 2018/5/14 9:00:00
  • 訪問次數(shù) 1165

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源順有限公司

源順有限公司是一家專門從事納米科技,材料分析,光電產(chǎn)品檢測及生產(chǎn)設(shè)備銷售和技術(shù)咨詢的高科技公司。我們*代理具有*水平的分析儀器,產(chǎn)品涵蓋了微觀結(jié)構(gòu)觀察,物理性能,力學(xué)性能及電磁學(xué)性能。
Total Solution ,為客戶提供整體解決方案,是源順公司一貫堅(jiān)持的宗旨。 這個(gè)宗旨象征*、品質(zhì)與客戶服務(wù),并將在新的世紀(jì)中,全面提升服務(wù)品質(zhì)以伴隨您的闊步發(fā)展。
源順公司秉持企業(yè)文化:『誠信』、『品質(zhì)』、『服務(wù)』、『團(tuán)隊(duì)』、『創(chuàng)新』,本著其宗旨『Total Solution』,繼續(xù)將*的技術(shù),以Z佳的成本效益,提供客戶*質(zhì)的精密分析儀器和生產(chǎn)設(shè)備,并堅(jiān)持Z*的服務(wù)。

公司產(chǎn)品主要有:
LUM公司: 多功能的顆粒狀態(tài)與穩(wěn)定度分析儀
Qudix公司: 奈米 & 微米顆粒大小分析儀。
Scinco公司: 可見光及紫外光光度計(jì)(UV-Vis Spectrophotometer), Colormate。
SOFRASER公司: 在線粘度計(jì)。
ProRheo公司: 高階粘度計(jì)。
Rame-hart公司: 接觸角及表面張力分析儀。
AET 公司: 微波誘電分析儀
NANOFILM公司: 呈象橢偏儀,布氏角顯微鏡,LB 薄膜分析。
UNIOPT公司: 雙折射分析儀。
NonoInk: Dip Pen Nanolithography (DPN) 沾筆式納米制程技術(shù)。
ANASYS 公司: Nano-Thermal Analysis。
PNI公司: 原力顯微鏡(AFM)
Capres公司: MRAM,寫磁頭的MTJ 磁阻和隧阻&材料表面 Nano微區(qū)范圍的阻抗分析.
LYNCEETEC公司: DHM (數(shù)字全析顯微鏡)
BEDE公司: 高分辨X射線衍射儀。
OMI公司: Solstice (晶圓或外延片的能階Bandgap分析,Strained Silicon 分析)。
Equinox (IC or MEMS封裝應(yīng)變,3D熱機(jī)械變形及CTE分析)。
Pascal公司: 脈沖雷射濺鍍MBE(PLD MBE) – ZnO, GaN, etc.。
Cambridge Nano Tech: 原子薄膜沉積儀 (ALD).
EpiQuest公司: 研發(fā)型 MOCVD,MBE,VCSEL 氧化系統(tǒng)。


源順公司總部設(shè)在香港,在上海和北京設(shè)立了分公司,深圳和成都設(shè)立了辦事處,并有強(qiáng)大的技術(shù)和維修隊(duì)伍,為客戶提供Z高水平的產(chǎn)品和服務(wù)。

公司產(chǎn)品主要有:X射線衍射系統(tǒng);多功能穩(wěn)定度分析儀 ;奈米顆粒大小分析儀;光電制造和檢測系統(tǒng);粘度分析系統(tǒng);粒度及微流變分析系統(tǒng);數(shù)字全析顯微鏡;呈象橢偏儀,布氏角顯微鏡,LB 薄膜分析;接觸角及表面張力分析儀;沾筆式納米制程技術(shù);在線粘度計(jì);原子薄膜沉積儀。

 SCM
  ◆ 材料表面 Nano微區(qū)范圍的『阻抗』分析
* SPM-CIPTech
  ◆ IBM & Infineon技術(shù)『Current In-Plane Tunneling』
  ◆ MRAM、讀寫磁頭的 MTJ 『磁阻』和『隧阻』
* micro RSP
◆ 超淺結(jié)『Ultra Shallow Junction』 『阻抗』分析
* M4PP SEM Module
  ◆ SEM 在線微區(qū) Sheet Resistance 點(diǎn)測模塊
  ◆ 配合 FIB 進(jìn)行在線 Sheet Resistance 分析

* MFPP & M4PP:四點(diǎn)或多點(diǎn)奈米探針

微觀四點(diǎn)探針 M4PP ,比傳統(tǒng)的四點(diǎn)探針的間距小三個(gè)數(shù)量級,利用硅微加工技術(shù)加工而成。 CAPRES 可以提供間距為 5, 10, 15, 20, 25 和 30 微米的探針。

這種探針技術(shù)適用于材料微觀電性能的表征,是半導(dǎo)體和薄膜工業(yè)質(zhì)量控制的理想工具。它們也可被用于研究,例如對多晶材料中單晶粒或單疇的電導(dǎo)率進(jìn)行成像。或者該技術(shù)可用于在超高真空 UHV 下,清潔硅片由于表面重構(gòu)造成的微觀電子輸送的改變。這項(xiàng)技術(shù)是 MIC 和日本東京大學(xué)物理系合作的部份結(jié)果。

CAPRES 現(xiàn)正致力于為客戶的特殊要求定制探針,可以制作間距小至 1.5 微米的探針。

 



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