掃描 Kelvin Probe（開爾文探針）可以測量 CPD（接觸電位差）值，評估半導(dǎo)體和導(dǎo)電材料的功函數(shù)。該技術(shù)起源于19世紀末，最早由英國科學(xué)家開爾文勛爵所提出，隨著科學(xué)技術(shù)的不斷進步，開爾文探針技術(shù)逐漸得到改進和完善，應(yīng)用領(lǐng)域也不斷擴大。目前，開爾文探針技術(shù)已經(jīng)成為表面科學(xué)、材料科學(xué)、微電子學(xué)等領(lǐng)域的重要研究手段。

適用研究范圍

• 材料的功函數(shù)

• 費米能級的位置

• n 或 p 型半導(dǎo)體

• 半導(dǎo)體的能隙

• 表面電勢

• 表面態(tài)密度

• 表面充放電效應(yīng)

• 少數(shù)載流子擴散長度

• 溫度和濕度對功函數(shù)的影響

• 更多特性

探針結(jié)構(gòu)圖

探頭由Instytut Fotonowy設(shè)計制造，具有顯著優(yōu)勢：即使在距樣品 0.5 mm 的距離下，仍能獲取強信號。這使得無論樣品表面粗糙還是拋光，都能夠穩(wěn)定使用。同時，探頭設(shè)計具備透光性，允許垂直光束照射樣品。振蕩由電磁鐵驅(qū)動，以確保精準的測量。

掃描開爾文探針系統(tǒng)：掃描開爾文探頭可測量單點接觸電位差（CPD）并掃描整個樣品表面，分析表面狀態(tài)，評估表面缺陷和表面態(tài)密度等電學(xué)特性。

我們提供一系列高性能開爾文探針系統(tǒng)，旨在滿足不同測試需求和應(yīng)用場景，確保高效、精準的表面分析和電化學(xué)測量。無論是基礎(chǔ)的表面功函數(shù)研究，還是高精度的電化學(xué)樣品分析，我們的系統(tǒng)系列都能夠提供全面的解決方案，助力科研人員在材料科學(xué)、電子性能測試和電化學(xué)領(lǐng)域取得突破性成果。每款系統(tǒng)都經(jīng)過精心設(shè)計，確保為用戶提供先進的測量精度和可靠性。

1. 單點開爾文探針系統(tǒng)：用于研究功函數(shù)，能夠精準測量樣品表面特定位置的接觸電位差（CPD）。

2. 電化學(xué)開爾文探針系統(tǒng)：這是一款創(chuàng)新的設(shè)備，專為直接測量與電解質(zhì)接觸的電化學(xué)樣品電子功函數(shù)設(shè)計，無需干燥樣品表面，配備了專用的電化學(xué)樣品池。

3. 完整型開爾文探針系統(tǒng)：Fotonowy的完整型開爾文探針系統(tǒng)突破了接觸電位差測量的關(guān)鍵瓶頸，實現(xiàn)了精確區(qū)分樣品與探針功函數(shù)變化。它提供了更高精度的測量，廣泛應(yīng)用于表面功函數(shù)研究、電子性能測試及材料分析。