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AS-one 法國ANNEALSYS真空快速退火爐

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ANNEALSYSAS-ONE快速退火爐

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上海麥科威半導(dǎo)體技術(shù)有限公司(Shanghai Makeway Semiconductor LTD)是一家專業(yè)的微納材料、半導(dǎo)體和微電子材料及器件研發(fā)儀器及設(shè)備的供應(yīng)商,所銷售的儀器設(shè)備廣泛用于高校、研究所、以及半導(dǎo)體和微電子領(lǐng)域的高科技企業(yè)。目前總部在上海,香港、南通、深圳、北京分別設(shè)立分公司和辦事處,快速響應(yīng)客戶需求。同時(shí)上海麥科威在快速擴(kuò)展海外市場,并設(shè)立新加坡分公司,輻射東南亞市場。

      上海麥科威半導(dǎo)體技術(shù)有限公司主要銷售產(chǎn)品包括:  - 霍爾效應(yīng)測試儀;  - 快速退火爐;  - 回流焊爐,共晶爐,釬焊爐,真空燒結(jié)爐;  - 電子束蒸發(fā)鍍膜機(jī),熱蒸發(fā)鍍膜機(jī);  - 探針臺,低溫探針臺,微探針臺;  - 金剛石劃片機(jī); - 球焊機(jī),鍥焊機(jī);  - 磁控濺射鍍膜機(jī);  - 原子層沉積系統(tǒng),等離子增強(qiáng)原子層沉積設(shè)備;  - 電化學(xué)C-V剖面濃度分析儀(ECV Profiler); - 掃描開爾文探針系統(tǒng); - 光學(xué)膜厚儀; -貼片機(jī)-PECVD\CVD;-脈沖激光沉積系統(tǒng)-PLD-納米壓?。?等離子清洗機(jī)、去膠機(jī);-反應(yīng)離子刻蝕RIE; - 光刻機(jī)、無掩膜光刻機(jī); - 勻膠機(jī); - 熱板,烤膠板; -少子壽命、太陽能模擬器;-NMR-瞬態(tài)能譜儀-外延沉積-等離子清洗機(jī)-離子注入-劃片機(jī)、裂片機(jī)光刻機(jī)(針尖/電子束光刻機(jī)EBL,紫外光刻機(jī),激光直寫光刻機(jī)),鍍膜機(jī)(磁控濺射機(jī),電子束蒸發(fā)機(jī),化學(xué)沉積機(jī),微波等離子沉積機(jī),原子層沉積機(jī)  等等…

企業(yè)客戶:華為技術(shù)有限公司, 深圳市鵬芯微集成電路制造, 深圳清力技術(shù), 安徽格恩半導(dǎo)體, 蘇州稀晶半導(dǎo)體科技, 矽品半導(dǎo)體, 廈門海辰新能源科科, 中核同創(chuàng)(成都)科技, 洛瑪瑞芯片技術(shù)(常州),偉創(chuàng)力科技, 奧普科星河北科技,廣東五星太陽能,廣東萬和集團(tuán),西安西測股份, 普源精電科技, 普源精電科技股份, 上海蔚來汽車, 北京華脈泰科, 廣醫(yī)東金灣高景太陽能科技, 深圳匯佳成電子, 深圳市化訊半導(dǎo)體材料, 珠海珍迎機(jī)電, 合肥鼎材科技, 山東金晶節(jié)能玻璃, 江蘇云意電氣股份, 廣東風(fēng)華技股份, 浙江中能合控股集團(tuán),固安維信諾,淮安天合光能,浙江老鷹半導(dǎo)體, 四川信通電子科技等。


科研院所/高等院校: 北京航空航天大學(xué), 汕頭大學(xué), 南方醫(yī)科大學(xué), 清華大學(xué), 北京大學(xué), 復(fù)旦大學(xué), 西北工業(yè)大學(xué), 南京醫(yī)科大學(xué), 香港中文大學(xué), 香港城市大學(xué), 蘇州大學(xué), 深圳職業(yè)技術(shù)學(xué)院, 南京大學(xué)合肥國家試驗(yàn)室, 上海交通大學(xué)醫(yī)學(xué)院, 華南理工大學(xué),華東師范大學(xué),江南大學(xué),重慶26所, 深圳大學(xué), 南方科技大學(xué), 深圳技術(shù)大學(xué), 理化技術(shù)研究所, 中國工程物理研究院激光聚變研究中心, 廣東粵港澳大灣區(qū)黃埔材料研究院, 桂林電子科技大學(xué), 上海硅酸鹽研究所, 中國航天五院,中科合肥智慧農(nóng)業(yè)協(xié)同創(chuàng)新研究院等。

 

 

 

 

 

 

 

 

半導(dǎo)體設(shè)備,快速退火爐,原子層沉積,鍵合機(jī),光刻機(jī)

產(chǎn)地:法國AnnealSys;

型號:AS-One100/AS-One150

 

AS-ONE立式快速退火爐為法國AS公司生產(chǎn),分為AS-ONE 100, 150, 200三個(gè)型號,分別對應(yīng)4英寸、6英寸、8英寸的真空快速退火爐產(chǎn)品。

 

應(yīng)用:

 - 快速熱退火  RTA;

 - 快速熱氧化 RTO;

 - 擴(kuò)散,接觸退火;

 - 化合物半導(dǎo)體退火;

 - 氮化,硅化;

 - 硒化,硫化;

 - 石墨烯沉積,碳納米管生長;

 - 晶體化,致密化;

 

技術(shù)規(guī)格:

規(guī)格

AS-ONE 100

AS-ONE 150

最大樣品基底直徑

100mm (4英寸)

150mm (6英寸)

腔體尺寸

130mm直徑 x 25mm

200mm直徑 x 25mm

紅外燈數(shù)量/最大功率

12支 / 30KW

18支 / 34KW

紅外燈冷卻方式

風(fēng)扇

風(fēng)扇

標(biāo)準(zhǔn)溫度范圍

室溫 ~ 1250°C

室溫 ~ 1200°C

選配高溫版本范圍

室溫 ~ 1500°C

室溫 ~ 1300°C

升溫速度

0.1°C ~ 200°C/s

0.1°C ~ 150°C/s

溫度控制

快速數(shù)字PID控制器

快速數(shù)字PID控制器

熱電偶

K型

K型

高溫計(jì)

150°C ~ 1100°C

400°C ~ 1500°C

150°C ~ 1100°C

400°C ~ 1500°C

氣體注入

石英視窗以下

石英視窗以下

清洗氣路

標(biāo)準(zhǔn)配置

標(biāo)準(zhǔn)配置

工藝氣路方式/數(shù)量

MFC / 5路

MFC / 5路

真空獲得系統(tǒng)

干泵(10-2Torr)

分子泵(10-6Torr)

干泵(10-2Torr)

分子泵(10-6Torr)

尺寸/重量

510mm x 1425mm x 800mm / 194Kg

510mm x 1425mm x 800mm / 240Kg

參考客戶:

清華大學(xué)、北京大學(xué)、復(fù)旦大學(xué)、華南理工大學(xué)、天津中電十八所、南京中電五十五所、GE上海研發(fā)中心、南方科大、深圳大學(xué)等。

大尺寸樣品快速退火爐

 

快速退火爐(RTP/RTA)是半導(dǎo)體材料和器件常用的一款工藝設(shè)備??焖偻嘶馉t可以在真空、惰性氣氛、不同的工藝氣體環(huán)境下使用。

 

儀器特點(diǎn):

  -  快速熱處理、快速熱退火  RTP / RTA;

  -  可在真空、甚至于高真空環(huán)境使用;

  -  廣泛用于太陽能電池片快速退火工藝,如156mm X 156mm電池片,300mm X 300mm電池片等;

 



相關(guān)分類

氧化擴(kuò)散設(shè)備


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