日本MIKASA株式會社米卡薩中國現(xiàn)貨代理
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半導(dǎo)體制造工序中的Mikass半導(dǎo)體設(shè)備

為半導(dǎo)體制造工序提供支持的Mikasa
備齊光刻膠涂布、曝光、顯影、蝕刻等半導(dǎo)體制造前段工序所需要的裝置后，提供一站式服務(wù)。另外，為旋轉(zhuǎn)涂膜儀的所有機型準(zhǔn)備了替代用機，可在發(fā)生故障時盡早應(yīng)對，且在銷售后提供快捷周到的售后服務(wù)。針對研究過程中所發(fā)生的一系列問題，也可在現(xiàn)場提出解決建議。與客戶共同探討在哪個工序出現(xiàn)了問題、應(yīng)如何改進等等，從而得出解決建議。Mikasa 作為一個可在半導(dǎo)體方面進行共同商談的咨詢顧問，不僅銷售設(shè)備，而是為客戶半導(dǎo)體制造的整體工藝流程
晶圓→洗滌（清除晶圓表面的臟污及各種金屬離子）→成膜（在高溫擴散爐中，形成表面氧化膜）→光刻膠涂布（將光刻膠（感光材料）涂抹到晶圓表面，形成厚度均一的薄膜）→曝光（將光掩膜與晶圓重合，復(fù)制電路圖案）→顯影（去除曝光部位（正膠）的光刻膠）→蝕刻（通過腐蝕氧化膜來蝕刻電路）

日本MIKASA旋轉(zhuǎn)涂膜儀SpinCoater.

光刻膠涂布/將光刻膠(感光材料)涂抹到晶園表面，形成厚度均一-的薄膜。旋轉(zhuǎn)涂膜儀

滴液裝置可選組件 吸盤

●MS-B100/ MS-B150

●MS-B200

●MS-B300

●MS-B200 (密閉型)

●MS-B300 (密閉型)

日本MIKASA光刻機

●MA-10

●MA-20

●MA-60F

●M-2LF

●M-1S

日本MIKASA曝光，將光掩膜與晶園重合，復(fù)制電路圖案。

日本MIKASA顯影、蝕刻裝置DeveloperEtching

去除曝光部位(正膠)的光刻膠。
●AD-1200

●AD-3000

●PD-1000

日本MIKASA蝕刻裝置

蝕刻裝置

●ED-1200

●ED-3000

日本MIKASA旋轉(zhuǎn)涂布機MS-150
MIKASA 旋轉(zhuǎn)涂布機 MS-A150/MS-B150 現(xiàn)貨
代理MIKASA旋轉(zhuǎn)涂布機SpinCoater MS-B200
日本MIKASA旋轉(zhuǎn)涂布機MS-A150/MS-B150 現(xiàn)貨
為半導(dǎo)體制造工序提供支持的Mikasa
備齊光刻膠涂布、曝光、顯影、蝕刻等半導(dǎo)體制造前段工序所需要的裝置后，提供一站式服務(wù)。另外，為旋轉(zhuǎn)涂膜儀的所有機型準(zhǔn)備了替代用機，可在發(fā)生故障時盡早應(yīng)對，且在銷售后提供快捷周到的售后服務(wù)。針對研究過程中所發(fā)生的一系列問題，也可在現(xiàn)場提出解決建議。與客戶共同探討在哪個工序出現(xiàn)了問題、應(yīng)如何改進等等，從而得出解決建議。Mikasa 作為一個可在半導(dǎo)體方面進行共同商談的咨詢顧問，不僅銷售設(shè)備，而是為客戶半導(dǎo)體制造的整體工藝流程給出支持。