日本MICRO微方UVC深紫外UVC40x36斑點照射用

日本MICRO微方UVC深紫外UVC40x36斑點照射用

技術核心與創(chuàng)新設計

日本MICRO微方UVC40x36深紫外照射器采用第四代UVC-LED陣列技術，通過光學透鏡系統(tǒng)實現40mm×36mm矩形區(qū)域的±5%照度均勻性（10mm工作距離）。設備支持265nm、280nm、365nm、385nm、405nm五波段可選，其中UVC波段（265-280nm）峰值輻照度達400mW/cm2，UV-A波段（365-405nm）最高可達500mW/cm2。內置閉環(huán)水冷系統(tǒng)可將LED結溫控制在45℃以下，確保2000小時光衰小于3%。

模塊化設計允許4臺設備并聯(lián)擴展至70×40mm照射范圍，配備M4螺紋孔與磁吸底座，兼容機械臂集成或手持操作。整機重量1.4kg，IP54防護等級適應工業(yè)環(huán)境，10,000小時壽命顯著降低耗材成本。

行業(yè)應用解決方案

1. 電子制造領域
   在PCB板件保護膜固化中，265nm波段可實現3秒內完成0.1mm厚膠層固化，同時滅活表面99%以上大腸桿菌（40mJ/cm2劑量）。微型攝像頭模組粘接時，365nm波段配合0.5mm光斑附件精準定位，避免CMOS傳感器熱損傷。

2. 醫(yī)療設備生產
   用于內窺鏡密封膠固化時，280nm波段同步破壞生物膜DNA結構，達到ISO 15858標準要求的消毒效果。相較傳統(tǒng)汞燈方案，能耗降低60%且無臭氧排放。

3. 科研與微加工
   在微流控芯片鍵合實驗中，405nm波段透過PDMS材料直達粘接界面，5秒內完成20×20mm區(qū)域固化，鍵合強度達2.5MPa以上。

市場差異化價值

與同類產品相比，UVC40x36"固化+消毒"雙模式：

• 工業(yè)模式：Focus模式輸出聚焦光束（中心照度提升30%）

• 衛(wèi)生模式：Wide模式擴大照射角至60°實現表面滅菌

設備通過CE、RoHS認證，配套智能控制器可預設100組照射參數，歷史數據追溯功能滿足GMP合規(guī)要求。作為MICRO微方工業(yè)UV產品線的機型，其兼顧精密加工與衛(wèi)生安全的特性，已廣泛應用于日東電工、索尼半導體等制造場景。