焦耳加熱系統(tǒng)
參考價(jià) | ¥ 60000 |
訂貨量 | ≥1臺(tái) |
- 公司名稱(chēng) 天津市九所科技發(fā)展有限公司
- 品牌 九所科技
- 型號(hào)
- 產(chǎn)地
- 廠商性質(zhì) 生產(chǎn)廠家
- 更新時(shí)間 2025/6/26 15:07:16
- 訪問(wèn)次數(shù) 103
聯(lián)系方式:崔小姐13114983770 查看聯(lián)系方式
聯(lián)系我們時(shí)請(qǐng)說(shuō)明是化工儀器網(wǎng)上看到的信息,謝謝!
產(chǎn)地類(lèi)別 | 國(guó)產(chǎn) | 加熱方式 | 紅外測(cè)溫 |
---|---|---|---|
價(jià)格區(qū)間 | 2萬(wàn)-5萬(wàn) | 控溫精度 | ±2℃ |
內(nèi)部尺寸 | 100*5mm | 升溫速度(達(dá)到最高溫) | 80-100/min |
儀器種類(lèi) | 真空爐 | 應(yīng)用領(lǐng)域 | 化工,電子/電池,鋼鐵/金屬,制藥/生物制藥,綜合 |
最大功率 | 5kW | 最高溫度 | 2000℃ |
焦耳加熱系統(tǒng)
產(chǎn)品簡(jiǎn)介:
焦耳加熱系統(tǒng)是一種基于焦耳加熱原理(即電流通過(guò)導(dǎo)體時(shí)因電阻產(chǎn)生熱量)的高效加熱設(shè)備,廣泛應(yīng)用于材料科學(xué)、新能源、電子器件、熱處理等領(lǐng)域。其核心優(yōu)勢(shì)在于快速升溫、精準(zhǔn)控溫、高能量密度及非接觸式加熱,能夠滿足復(fù)雜工藝對(duì)溫度場(chǎng)的嚴(yán)苛要求。
焦耳加熱系統(tǒng)以其超快升溫、精準(zhǔn)控溫與非接觸式加熱等優(yōu)勢(shì),成為材料研發(fā)與先進(jìn)制造領(lǐng)域的關(guān)鍵設(shè)備。隨著技術(shù)的不斷進(jìn)步,其應(yīng)用場(chǎng)景將進(jìn)一步拓展,為新能源、半導(dǎo)體、航空航天等高技術(shù)產(chǎn)業(yè)提供核心工藝支持。
產(chǎn)品工作原理:
焦耳加熱系統(tǒng)通過(guò)電流直接通過(guò)導(dǎo)電材料(如金屬、碳基材料、半導(dǎo)體等)或特殊設(shè)計(jì)的發(fā)熱體,利用材料自身電阻將電能轉(zhuǎn)化為熱能。其加熱速率遠(yuǎn)超傳統(tǒng)熱傳導(dǎo)方式,可在毫秒至秒級(jí)時(shí)間內(nèi)達(dá)到目標(biāo)溫度,適用于需要快速熱沖擊或瞬態(tài)高溫的實(shí)驗(yàn)場(chǎng)景。
核心特點(diǎn):
1. 超快升溫速率
升溫速度可達(dá)25℃/s。
適用于納米材料合成、相變研究、快速燒結(jié)等對(duì)時(shí)間敏感的工藝。
2. 高精度控溫
結(jié)合PID控制算法與實(shí)時(shí)溫度反饋系統(tǒng),溫度波動(dòng)可控制在±1°C以內(nèi)。
支持多段程序控溫,滿足復(fù)雜熱處理曲線需求。
3. 非接觸式加熱
避免傳統(tǒng)加熱方式(如輻射、對(duì)流)中熱傳導(dǎo)介質(zhì)導(dǎo)致的污染或效率損失。
適用于對(duì)潔凈度要求高的場(chǎng)景(如半導(dǎo)體薄膜沉積、催化劑制備)。
4. 高能量密度與局部加熱
可實(shí)現(xiàn)局部區(qū)域的高溫集中加熱,減少熱影響區(qū)。
適用于微納器件焊接、材料表面改性等精密工藝。
典型應(yīng)用場(chǎng)景:
1. 材料科學(xué)
納米材料合成:通過(guò)快速熱沖擊制備納米顆粒、二維材料(如石墨烯、氮化硼)。
相變研究:觀察材料在超快升溫/降溫過(guò)程中的結(jié)構(gòu)演變。
陶瓷燒結(jié):實(shí)現(xiàn)低溫快速致密化,抑制晶粒長(zhǎng)大。
2. 新能源領(lǐng)域
電池材料研發(fā):模擬電池充放電過(guò)程中的熱效應(yīng),優(yōu)化電極材料性能。
固態(tài)電解質(zhì)制備:通過(guò)快速熱處理提升離子電導(dǎo)率。
3. 電子器件制造
芯片封裝:實(shí)現(xiàn)微米級(jí)焊點(diǎn)的瞬態(tài)焊接,避免熱損傷。
柔性電子:在聚合物基底上沉積金屬薄膜時(shí),通過(guò)局部快速加熱減少熱應(yīng)力。
4. 熱處理與焊接
金屬玻璃制備:通過(guò)超快冷卻獲得非晶態(tài)結(jié)構(gòu)。
異種材料焊接:利用局部高溫實(shí)現(xiàn)低熔點(diǎn)材料與高熔點(diǎn)材料的連接。
主要技術(shù)參數(shù):